本発明は、シンチレーション物質に関し、これらは、X線、ガンマー線およびアルファ線の記録および測定；固溶体構造の非破壊試験；三次元陽電子発光断層X線撮影；および、X線コンピュータ断層写真撮影ならびに蛍光X線撮影のために、核物理分野、医学分野および石油業界にて利用することができる。ルテチウム(Lu)とセリウム(Ce)とを含むシリケートに基づくシンチレーチング物質は、物質の組成が、化学式：Ce_xLu_2+2y-xSi_1-yO_5+y；Ce_xLi_q+pLu_2-p+2y-x-zA_zSi_1-yO_5+y-p；Ce_xLi_q+pLu_9.33-x-p-z□_0.67A_zSi₆O_26-p(式中、Aは、Gd、Sc、Y、La、Eu、Tbからなる群より選択される少なくとも1つの元素であり；xは、1×10^-4f.u.と0.02f.u.との間の値であり；yは、0.024f.u.と0.09f.u.との間の値であり；zは、0.05f.u.を上回らない値であり；qは、0.2f.u.を上回らない値であり；pは、0.05f.u.を上回らない値である)；Ce_xLi_1+q+pLu_9-x-p-zA_zSi₆O_26-p(式中、zは、8.9f.u.を上回らない値である)によって表される。達成可能な技術的成果は、高密度；高光収率；低い残光；および、三次元X線断層撮影(PET)用のシンチレーチング素子の製造の間の低い損失パーセンテージを有するシンチレーチング物質である。 （もっと読む）