説明

ビズテック セミコンダクター システムズ ゲーエムベーハーにより出願された特許

1 - 4 / 4


【課題】高効率と高い均質性の照射で、表面を照射して検査する装置を提供すること。
【解決手段】本発明は、鏡面の検査および照射装置に関する。この装置は、光源と、前記光源からの光を収集する集光系と、前記集光系からの光を透過し、前記集光系の下流の第1マイクロレンズと前記第1マイクロレンズの下流の第2マイクロレンズを有する均質光学系と、前記均質光学系からの光を鏡面に送るフーリエ光学系と、対物光学系と、像を記録する検出器を備え、前記集光系および第1マイクロレンズアレイは、光源を前記第2マイクロレンズアレイに投射し、前記第2マイクロレンズアレイと前記フーリエ光学系は、前記第1マイクロレンズアレイを前記鏡面に投射し、前記対物光学系は、前記鏡面を前記検出器へ投射する。 (もっと読む)


【課題】基板の位置をレーザー干渉計で求める際の再現性を改善すること。
【解決手段】基板支持装置41は、レーザー干渉計システム29と、可動なステージ構造物42と、可動なステージ構造物に固定され、レーザー干渉計システムのレーザービームを反射するステージミラー43と、を備える。ここで、測定上重要な要素が、空間的に固定することで関連付けられており、基板支持装置41のステージミラー43から基板までの要素の組み合わせとして用意される。この要素は、基板の弾性係数との差分が15%以内となる弾性係数を有する材料によりつくられたものである。 (もっと読む)


【課題】空調管理された空間で用いられるレーザー干渉計の測定精度を上げること。
【解決手段】本発明は、対象物(30)の位置の測定装置に関する。この測定装置は、少なくとも1つの方向への対象物の位置移動を求めるとともに、2つのレーザー軸を定義する少なくとも1つのレーザー干渉計システム(29)と、少なくとも1つのレーザー干渉計システム(29)を対象物(30)とともに収容し、吸気口をもつ領域(42)と排気口をもつ領域(44)を有する空調管理室(40)と、空調管理室(40)を通る気流(46)の少なくとも一部を、少なくとも1つのレーザー干渉計システム(29)のレーザー軸(52,54)の領域に向ける操作をする案内手段と、を備える。 (もっと読む)


従来使用していた検査装置および検査方法では、反射された可視光または紫外光を使用し、それによりたとえばウェハの微細構造サンプルを解析している。本発明の目的は、この装置の可能な用途を増やすことにあり、すなわち構造的な詳細を明らかにすることである。たとえば、塗装材料や中間材料が不透明であることから可視光または紫外光で見ることができないように両面を塗膜化されたウェハなどが対象となる。上述の目的は、反射光として赤外光を使用する一方で、光を透過させることにより実現される。すなわち、赤外線画像のコントラストを大きく改善し、サンプルを、反射または透過赤外光および反射可視光で同時に検査することができる。 (もっと読む)


1 - 4 / 4