説明

中微半導体設備(上海)有限公司により出願された特許

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【課題】 プラズマ生成に有効な高周波電力を、精度よく、短時間で制御して供給できる高周波電源装置および高周波電力供給方法を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理室5へ、第1の周波数fの高周波電力を供給する第1高周波電源部11および第2の周波数f(f>f)の高周波電力を供給する第2高周波電源部71を、少なくとも備え、第1高周波電源部11に、第1の周波数の高周波電力を発振する、周波数可変の第1高周波発振部16と、第1高周波発振部の出力を受けて、その電力を増幅する第1電力増幅部15と、反射波をヘテロダイン検波するヘテロダイン検波部13と、ヘテロダイン検波部で検波された信号および進行波信号を受信し、第1高周波発振部の発振周波数および第1電力増幅部の出力を制御する第1制御部14とを備える。 (もっと読む)


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