説明

韓国ホーヤ電子株式会社により出願された特許

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【課題】半透光部に発生した欠陥を好適に修正できるグレートーンマスクの欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】遮光部21と、透光部22と、マスク使用時に用いられる露光光の透過量を所定量低減する半透光部23とを有するグレートーンマスク20の欠陥修正方法であって、半透光部23が半透光膜26により形成され、半透光部23において欠陥が生じたときに該欠陥部分51,52を特定する工程と、該欠陥部分51,52を含む半透光部であって、他の遮光部および/または透光部によって囲まれた領域の半透光部23全体の半透光膜26を除去する工程と、該半透光膜26を除去した領域53に、上記半透光膜26とは素材又は組成の異なる半透光性の修正膜27を形成する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】半透光部に発生した欠陥を好適に修正できるグレートーンマスクの欠陥修正方法を提供する。
【解決手段】半透光部は半透光膜26により形成され、半透光部において欠陥50、51が生じたときに該欠陥部分を特定し、特定した欠陥部分に修正膜27a、27bを形成するための成膜手段と成膜素材を決定し、決定した成膜手段と成膜素材を適用したときに、露光光の透過量が所定範囲となるような成膜面積を決定し、決定した成膜面積の修正膜27a、27bを形成する。 (もっと読む)


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