【課題】下地の水分に影響されにくい塗膜を形成できる雑草生育抑制工法及び雑草生育抑制用組成物を提供すること。
【解決手段】ポリウレタン樹脂を含む塗膜を下地に形成し、前記下地における雑草の生育を抑制する雑草生育抑制工法であって、前記ポリウレタン樹脂は、ポリイソシアネート及びポリオールを含むモノマーを重合して成るものであり、前記ポリイソシアネートは、（Ａ１）ＭＤＩ（Ａ２）ポリメリックＭＤＩ（Ａ３）カルボジイミド変性ＭＤＩ（Ａ４）水素添加ＭＤＩ（Ａ５）２価又は多価アルコールで前記（Ａ１）〜（Ａ４）のいずれかを変性した化合物から成る群から選ばれる１種以上であるとともに、前記ポリオールは、（Ｂ１）ヒマシ油（Ｂ２）変性ヒマシ油（Ｂ３）ポリブタジエン系ポリオール（Ｂ４）ポリテトラメチレングリコールから成る群から選ばれる１種以上であることを特徴とする雑草生育抑制工法。 （もっと読む）