ヴィステック セミコンダクタ システムス ゲーエムベーハーにより出願された特許
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基板上の構造の座標を決定する際の計測精度を向上させる方法
【課題】座標測定に用いるレーザ干渉計のエラーの影響をなくする。
【解決手段】 基板上の少なくとも一つの構造の座標を高精度に計測する方法である。X/Y座標方向にトラバースできるステージが提供され、これは干渉法光計測システムに配置される。基板上の構造は、Z座標方向に配向された光軸20を持つ計測オブジェクティブ21を通じて少なくとも一つの検出器34上に撮像される。該構造は所謂デュアルスキャンで撮像される。システマチックなエラーはこのようにして無くされる。
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