説明

シモーフィックス,インコーポレーテッドにより出願された特許

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【課題】パルスdc物理気相堆積プロセスにより、固体再充電可能Li電池のカソード層として利用しうるLiCoO膜の低温高速度堆積方法を提供する。
【解決手段】LiCoO層を堆積する前に、基板16を約200℃までの温度に予備加熱する。次にLiCoOを含むスパッタターゲット12にパルスDC電力を印加し、ターゲット12と対向する位置に配置された基板16上にLiCoO層を形成する。さらに、短時間の急速熱アニールプロセスを行う。 (もっと読む)


本発明によれば、パルスdc物理気相堆積プロセスによるLiCoO層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の<101>配向または<003>配向を有するLiCoOの結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Li電池のカソード層として利用しうるLiCoO膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、LiCoO層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温(>700℃)アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、LiCoO層を利用する電池を改良することが可能である。
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