多孔質ナノスケール膜を形成する方法を記載する。本方法は、半導体材料を含むナノスケールフィルムを基板の一方の側に被着させる段階；基板の対側をマスキングする段階；基板を、そのマスキングされた対側から、基板を貫通する流路が形成されるまでエッチングし続け、それによってフィルムをその両側で露出させて膜を形成する段階；および続いて、複数のランダムに離間した孔を膜内に同時に形成する段階を含む。実質的に滑らかな表面、高い孔密度および高いアスペクト比寸法により特徴づけられる、結果として得られる多孔質ナノスケール膜は、濾過装置、マイクロ流体装置、燃料電池膜において、また電子顕微鏡基板として、使用することができる。
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