説明

檀國大學校 産學協力團により出願された特許

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【課題】レーザを用いてウエハの状態で直ちに汚染物質を検出及び分析することのできるウエハ汚染物質の分析装置及び方法を提供する。
【解決手段】ウエハ汚染物質の分析装置100は、汚染物質を分析するためのウエハWを支持するウエハホルダ160と、ウエハWから分離した試料を採取するためにウエハW側にレーザLを照射するレーザアブレーション装置110と、レーザLを照射することによってウエハW表面から分離した試料を採取するための分析セル170と、分析セル170に連結されて前記採取する試料から汚染物質を分析するための分析装置190とを含む。 (もっと読む)


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