説明

シーピーシー コーポレイション タイワンにより出願された特許

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本発明は、抽出システム中の汚染された低品質スルホランの全ストリームを再生する継続的なライン中での処理方法を提供する。特に、溶媒循環ループに再生装置を設置して、汚染物質を継続的に除去し、溶媒を、クリーンで、有効で、腐食の少ない状態に維持する。具体的には、再生装置は着脱可能なカバーを備える圧力容器と、当該圧力容器に嵌合された垂直ステンレススチール管を有するラウンドラックとを備える。各ステンレススチール管内に磁気棒を配置する。スクリーンシリンダーをステンレススチール管のリング内に配置する。再生装置は、汚染スルホランが再生装置内を通過する際に、汚染物質を取る。再生装置を定期的に分解して汚染物質を取り除くことも可能である。このような再生装置は、構成がシンプルであり、操業信頼性が高く、操業維持コストが低いことを特徴とする。このような再生装置を用いて、厄介な腐食の心配なく、抽出システムを高効率且つ高操業度で操業することが可能となる。
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優れた回収率で窒素化合物、特には塩基性窒素化合物を芳香族軽質石油から除去するための非常に効率的な液−液抽出プロセスは、抽出溶剤として脱イオン水を使用し、該脱イオン水は、酸性化されていてもよい。生成物は、酸性触媒を不活性化し得る窒素毒の量が極めて少ない芳香族炭化水素である。抽出した油は、窒素毒に過度に敏感な高性能固体触媒で促進される後続の触媒プロセス用の供給原料として好適である。
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