説明

株式会社フィズケミックスにより出願された特許

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【課題】成膜処理に掛かるタクトタイムを短縮できる成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜装置1の材料ガス供給装置4は、真空チャンバ2の略中央から、互いに相反する方向へ材料ガスを供給する第1供給装置4L及び第2供給装置4Rを有し、材料ガス拡散装置6は、第1供給装置4L及び第2供給装置4Rから供給された材料ガスを、それぞれ面状に拡散する第1拡散装置6L及び第2拡散装置6Rを有し、基板保持装置5は、一組の基板9L,9Rのうち一方の基板9Lを保持する第1保持装置5Lと、他方の基板9Rを保持する第2保持装置5Rとを含んで構成される。また、第1保持装置5L及び第2保持装置5Rは、それぞれ、保持する基板の処理面を、第1拡散装置6L及び第2拡散装置6Rに向けた状態で、互いに対向して設けられる。 (もっと読む)


【課題】マスクの取り付け及び成膜と、成膜された基板の搬送工程を連続させる連続成膜搬送装置を提供する。
【解決手段】連続成膜搬送装置1は、成膜用の複数のマスク穴21が所定の間隔をおいて形成され、基板10が載置される一方の面を有する搬送用ベルト20と、一方の面と反対側の面側に設置される成膜機構30と、搬送用ベルト20を移動させるモータ40とを含む。各マスク穴21は、搬送用ベルト20における各マスク穴21の外周辺縁が基板10と重なるように基板10と比べて小さい面積を有する。成膜機構30は、マスク穴21のいずれかが所定の位置に位置したときに、マスク穴21のいずれかの上に配置される基板10を成膜する。 (もっと読む)


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