エレクシオン ゲーエムベーハーにより出願された特許
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治療方法
本発明は、半導体レーザ又はダイオードレーザからのレーザ光を用いる治療方法であって、パルス状のレーザ光（１．１〜１．６）が治療すべき部分に照射されることを特徴とする。 
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本発明は、半導体レーザ又はダイオードレーザからのレーザ光を用いる治療方法であって、パルス状のレーザ光（１．１〜１．６）が治療すべき部分に照射されることを特徴とする。
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