【課題】電子放出源の位置を正確に規定し、画素間の漏洩の無い電界放出ディスプレイを提供する。
【解決手段】基板１００の上に形成されたカソード電極１１０と触媒層１３０の上に感光性レジスト層１４０をコートし、パターン形成後に焼結させて所定位置にホールを形成し、ホール内にプラズマＣＶＤでカーボンナノチューブ１５０を成長させる。更に感光性レジスト１６０を用いて直接電極上に画素単位に区画するスペーサ１６２を形成し、画素間の漏洩を防止する。 （もっと読む）

本発明は、電界放出素子の選択的位置制御を用いた電界放出ディスプレイの製造方法およびその電界放出ディスプレイに関する。さらに具体的には、本発明は、電極構造が形成される前に、電子放出源としての炭素ナノチューブの位置を決定して均一に成長させ、感光性レジストを用いて、選択的に均一に形成された前記炭素ナノチューブを画素単位に区分するスペーサを直接電極上に形成することにより、画素間の相互干渉現象である漏話を防止し且つ均一な電子放出によって画素の均一度を向上させることができる、電界放出素子の選択的位置制御を用いた電界放出ディスプレイの製造方法および電界放出ディスプレイを提供する。 （もっと読む）