本発明の極紫外線応用例またはＸ線応用例に好適な集光光学系においては、放射光は放射線光源（例えば、レーザープラズマまたはレーザープラズマ光源）を出て集光されてから画像合焦点に方向転換され、光学系は１枚以上の鏡を備えており、１枚の鏡または複数の鏡は各々が、放射線光源を通って延びる光軸を中心として対称性を示しているとともに、少なくとも第１反射面および第２反射面を有しており、第１反射面および第２反射面は合焦点が共通しており、使用にあたり、放射線光源からの放射光は第１反射面および第２反射面に入射する際に連続して、すれすれの入射を受け、第１反射面および第２反射面の共通合焦点は光軸に関して所定の距離 Δr だけ横断方向に片寄せされる。極紫外線製版システムも開示されており、前記システムは、レーザープラズマ（LLP）光源などのような放射線光源、集光光学系、光コンデンサ、および、反射マスクを備えている。極紫外線画像処理またはＸ線画像処理に好適であり、更にまた、極紫外線画像処理システムまたはＸ線画像処理システムにも好適な画像処理光学系も開示されており、かかる光学系は、画像処理光学系と、電荷結合素子配列などのような画像処理装置であって、画像合焦点に配置されるものとを備えている。 （もっと読む）

反射性（ミラーベース）光学器械、特に、多重反射光学システム及びこれらの製作に関する技術を提供する。１つ又はそれよりも多くのミラー（光軸に関して対称）を含み、放射線源（例えば、レーザ生成プラズマ、又は無限遠の放射線源）からの放射線が中間焦点の像焦点に向けられる反射光学システムにおいて、この又は各ミラーは、少なくとも第１及び第２の反射面を有し、それによって使用中に放射線源からの放射線は、光路において第１及び第２の反射面で連続かすめ入射反射を受け、少なくとも第１及び第２の反射面は、この第１及び第２の反射面での連続かすめ入射反射の入射角が実質的に等しくなるように形成される。反射面の好ましい幾何学的形状のための公式を開示する。この又は各ミラーは、電気形成された一体型構成要素として形成することができ、第１及び第２の反射面の各々は、ミラーの２つの隣接区画のそれぞれのものに設けられる。この反射光学システムは、ＥＵＶリソグラフィのための集光光学システム、又はＥＵＶ又はＸ線望遠鏡又は撮像光学システムに具現化することができる。 （もっと読む）

反射光学系を製作する方法であって、（ａ）少なくとも第１のマンドレル及び第２のマンドレルを用意するステップを有し、マンドレルは各々、伸長軸線を備えると共にその一端に、反射面を負の形状で構成する凹状端面を有し、（ｃ）第１のマンドレルと第２のマンドレルを互いに剛性的に且つ解除可能に取り付け、それによりマンドレル組立体を形成するステップを有し、（ｄ）マンドレル組立体を電鋳浴中に位置決めし、所定期間にわたり電鋳作業を実施し、それにより光学系をマンドレル組立体上に形成するステップを有し、（ｅ）マンドレル組立体を光学系から分離するステップを有し、それにより光学系は、少なくとも第１及び第２の細長い中空部分を有し、各中空部分は、それぞれのマンドレルの伸長軸線に一致した軸線を有し、各中空部分は、それぞれのマンドレルの凹状端面に対応した反射面が設けられた第１の端部及び開口している第２の端部を有し、少なくとも第１及び第２の細長い中空部分の軸線は、光路が反射面のところでの反射によって第２の端部相互間に定められるように差し向けられていることを特徴とする方法。この方法は、第１のマンドレルと第２のマンドレルとの間に設けられた中間マンドレルを用意するステップを有するのが良い。この方法によって得ることができる反射光学系も又、開示され、この反射光学系は、少なくとも第１及び第２の電鋳された細長い中空部分を有し、各中空部分は、開口端部を有すると共に開口端部とは反対側のその端部に反射面を有し、反射面は、光路が開口端部相互間に定められるように配置されると共に差し向けられている。製作された光学系は、アフォーカルリレーとして使用でき又は多くの像形成又はリソグラフィー用途に使用できる。
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