【課題】効率的に基板温度を変化させ、又、装置隔壁に熱応力による変形をもたらさずに、安定して成膜することができる成膜装置を実現する。
【解決手段】成膜の原料となる原料ガスが原料ガス導入口１７から導入された反応槽１０内で、処理対象の基板１は、陽極１３上に載置される。反応槽１０内にあって、陽極３の下方に、反応槽１０内の気密を維持した状態で移動して陽極１３からの距離を自由に変えることのできる冷却プレート２１が配置されている。冷却プレート２１には、シャフト２２を介して循環水冷却機２５から、温度制御された冷却水が与えられ、陽極１３を、隔壁を介さず冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子に良好な均一性を有する電界を加えることが可能な発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、アノード電極１１と、アノード電極１１と対向するように設置され、電界の印加により電子を放出する電子放出素子１６と、電子放出素子１６の上に設けられ、開口１４ａを備えるシャドウマスク１４と、アノード電極１１と、シャドウマスク１４との間に設置され、開口１３ａを備えるゲート電極１３と、を備える。ゲート電極１３の開口１３ａの半径をＲｇとし、シャドウマスク１４の開口１４ａの半径をＲｍとし、ゲート電極１３とシャドウマスク１４とが離間する距離をｈｇ、シャドウマスクの厚さをｈｍとすると、Ｒｇ、Ｒｍ、ｈｇ及びｈｍは、１．５≦Ｒｇ／Ｒｍ≦１．８７、１．５≦Ｒｍ／ｈｇ≦２．０、ｈｍ／ｈｇ≦０．２を満たす。これにより、電子放出素子１６に良好な均一性を有する電界を加えることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】均等な発光が可能な電界放出型光源を実現する。
【解決手段】容器状の管壁の少なくとも一部が可視光に対して透過率の高い材料で形成されたフェイスガラス１４で構成され、フェイスガラス１４以外の管壁には可視光に対して反射率の高く、導電性の高い部材によって構成されるアノード電極を兼ねる反射部１５が配置され、反射部１５の容器状の内部を向く面に蛍光体層１３が配置された真空封止容器１０と、真空封止容器内の直線状のエミッタ電極１１と、エミッタ電極１１の外周面に配置された電子放出素材１７と、給電部１２とを備えている。給電部１２は、エミッタ電極１１を支持すると共に、蛍光体層１３に近い部分の電子放出素材１７の電界強度を緩和させる用に機能し、これにより発光が均一化される。 （もっと読む）