説明

イーオン‐トーフ・テクノロジーズ・ゲー・エム・ベー・ハーにより出願された特許

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【課題】高いデータレート(Datenraten)と短い分析時間とによる二次イオン形成の高い効率を達成するために、二次イオン質量分析器の操作のための、クラスターイオンに関し改善された生成量を有するイオン源を提供すること。
【解決手段】液体金属層は純粋な金属ビスマスまたは低融点のビスマス含有合金からなり、その際電場の影響下でイオンエミッタ1を用いてビスマスイオン混合ビームを放射可能であり、該ビスマスイオン混合ビームから、それらの質量が単原子の1重または多重に電荷されたビスマスイオンBiP+の複数倍となる複数のビスマスイオン種のうちの1種が、フィルタ手段により、質量の純粋なイオンビームとしてろ過可能であり、該イオンビームは1種類のBiP+イオンのみから成っており、その際n≧2およびp≧1であり、かつnとpはそれぞれ自然数であることを特徴とする質量分析器。 (もっと読む)


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