【課題】複数のスポークを有するスパイダにＥＵＶの斜入射集光器（ＧＩＣシェル）を固定するための調節クリップが開示される。
【解決手段】クリップ１０が備える基体は、スパイダのスポークに固定され、上面を有する。クリップ１０が備えるフォーク部材２０は、端部に端部パッド３６を有する突起３０を２つ保持すると共に、突起３０の端部とは反対側の端部に第１ヒンジ部３８を保持する。ヒンジリーフ６０は基体の上面に固定され、第１ヒンジ部３８と動作可能に係合する第２ヒンジ部６１を有し、フォーク部材２０を回転調節可能にするヒンジが形成される。ＧＩＣシェルは、２つの端部パッド３６によるクリップの自己調節によって光学的に位置合わせされる。ＧＩＣシェルが位置合わせされると、端部パッド３６がＧＩＣシェルの外面に固定される。これにより、クリップは、ＧＩＣシェルをスパイダに対して定位置に固定する剛性支持部材となる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィ用ストレス分断装置、および、冷却斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーステムにおいてストレス分断装置を使用する方法が開示される。
【解決手段】冷却ＧＩＣシェルを設けることと、流入側一次冷却液マニホールド及び流出側一次冷却液マニホールドを設けることと、複数のストレス分断装置２７０それぞれを介して冷却ＧＩＣシェルを流入側一次冷却液マニホールド及び流出側一次冷却液マニホールドに流体接続することとを備える。ストレス分断装置２７０は、一例において、気体が充填された密閉空間を形成する内側及び外側蛇腹２７１Ａ、２７１Ｂを備えている。密閉空間内の伸張制限部材２９０は、内側蛇腹２７１Ａを流れる冷却液の圧力による内側蛇腹２７１Ａの伸張を制限する。ストレス分断装置２７０は、ＧＩＣミラーシステムの一部から複数のＧＩＣシェルへストレスが伝達するのを低減または防止する。 （もっと読む）

【課題】ＧＩＣ（斜入射集光器）シェルスパイダが、長期的にＥＵＶや他の放射副産物に曝されると、加熱され潜在的にミラーが変形し、性能上の問題を引き起こす。
【解決手段】斜入射集光器用冷却スパイダ１０は、外側リング２０と、内側リング５０と、両者を機械接続及び流体接続する複数のスポーク８０とを備える。内側リング５０、外側リング２０およびスポーク８０の複数の冷却チャネルは、冷却スパイダ１０を通過する主冷却液流路を形成する。主冷却液流路は、略１８０度の角度をなすように離間して配置される流入点及び流出点を有している。冷却液流路は、流入点において冷却スパイダ１０上を逆方向に流れる２つの分岐流路に分岐し、流出点において合流する。流入側冷却液マニホールド１１０Ａ及び流出側冷却液マニホールド１１０Ｂは、流入点及び流出点において外側リング２０に流体接続され、冷却液を冷却液流路に流す役割を果たす。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィシステムにＳＯＣＯＭＯシステムを組み込む場合に、より安価で、単純で堅牢なシステムを提供する。
【解決手段】ＬＰＰターゲットシステム４０は、Ｓｎペレット（液滴）源２０を備える。Ｓｎペレット（液滴）源２０は、上述のＳｎペレット（液滴）２２を吐出する。Ｓｎペレット（液滴）２２は、比較的低質量のペレットであって、レーザ光線１３が照射されると、略等方性のＥＵＶ３０を生成する。このため、ＬＰＰ２４と中間焦点ＩＦとの間に光学軸Ａ１に沿って多層シェル型ＧＩＣミラーＭＧを配置することができる。レンズ１７は、レーザ光線１３を焦点Ｆ１３に収束させる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィにおいて使用される斜入射集光器（ＧＩＣ）用の冷却システム及び冷却方法を提供する。
【解決手段】冷却システムは、離間して円形状に構成される複数の冷却ライン３０を備えている。冷却ラインは、シェルの中心軸ＡＣに対して垂直であると共に互いに平行である複数の平面ＰＬに配置されており、シェルの背面に熱接触し、背面の外周の周囲に配置される。流入側第２冷却液マニホールド及び流出側第２冷却液マニホールド４４，４６は、複数の冷却ラインにそれぞれ流体接続されている。その結果、流入側第２冷却液マニホールドから各冷却ラインの２つの半円形流路を介して流出側第２冷却液マニホールドに冷却液が流れる。冷却液の流入位置及び流出位置を離間させることにより、焦点能力の低下につながり得るシェル表面の局所変形を引き起こす可能性のある熱勾配が低減される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外（ＥＵＶ）又はＸ線放射光を反射するためのゾーン最適化ミラーを提供する。
【解決手段】極端紫外（ＥＵＶ）又はＸ線放射光１８を反射するためのゾーン最適化ミラーＭＺは、コーティングＣ１、Ｃ２、…Ｃｎを有する二以上のほぼ区分されたゾーンＺ１、Ｚ２、…Ｚｎを有する反射面Ｓを備える。各コーティングは、放射光の入射角のうち所定範囲を最適に反射させる。一以上のゾーン最適化ミラーを有するＥＵＶ光学系１０とＥＵＶリソグラフィ２００も開示されている。 （もっと読む）

【課題】シェルの数が削減され、冷却に利用できる十分な空間ができる。
【解決手段】リソグラフィと撮像を含む、超紫外線（ＥＵＶ）又はＸ線に用いる集光光学系は、入れ子構造に配され、それぞれが光源を介して延びる光軸を中心に対称であって少なくとも第１及び第２反射面を有する複数のミラーを備え、使用においては、光源からの光は第１及び第２反射面において連続して斜入射反射し、第１及び第２反射面のうち一以上は、光のファーフィールド強度分布の高い空間周波数変化を補償するような矯正形状を含む。或いは、光源からの光は第１及び第２反射面において連続して反射し、一以上のミラーは、更に第３反射面を含み、光源からの光は第１、第２及び第３反射面において連続して反射する。或いは、光源からの光は第１及び第２反射面において連続して斜入射反射し、二以上のミラーが異なる形状を有し、複数のミラーが光学的に整合されている。 （もっと読む）

【課題】集光効率を向上させるコーティングされたミラー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ用のミラーの生成方法であって、（ａ）基材を設け、（ｂ）同基材上に、ナノメートルスケール又は原子層の厚みｔ１の第１層を蒸着し、（ｃ）第１層上に、ナノメートルスケール又は原子層の厚みｔ２の第２層を蒸着し、第１及び第２層は、異なる構造及び物理的特性を有するように、異なる成長パラメータで蒸着され、各層は、単独で或いは隣接する層と共に、ＥＵＶ反射エレメントを形成し、ＥＵＶ光源からの高速な破片粒子による侵食に対し耐性のある、ほぼストレスフリーのマイクロメートルスケールの厚みのコーティングを有するミラーを形成する。また、リソグラフィとイメージングを含む極端紫外線（ＥＵＶ）又はＸ線応用の集光光学系であって、ＬＬＰ光源等の放射源を備え、集光装置及び反射マスクを含む光学系を開示する。 （もっと読む）