説明

KEN株式会社により出願された特許

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【課題】装置全体の小型化を図り、工場内などの設置が容易である冷却回収装置を提供すること。
【解決手段】処理流路の被処理ガスの流れ方向に見て下流側に向けて第1冷却域P及び第2冷却域Qがこの順に配設され、第1冷却域Pに第1熱交換器12が配設され、第2冷却域Qに第2熱交換器16が配設され、第1及び第2冷却域P,Qの下方に液体回収容器38が配設された冷却回収装置。第1冷却域Pは第1冷却ハウジング4により規定され、第1冷却ハウジング4内に第1熱交換器12が配設され、また第2冷却域Qは第2冷却ハウジング6により規定され、第2冷却ハウジング6内に第2熱交換器16が配設され、第1及び第2冷却ハウジング4,6が水平方向に並列的に配置されている。 (もっと読む)


【課題】領域毎に加熱状態を制御できる赤外線加熱装置の提供
【解決手段】赤外線加熱装置100は、近赤外線を高張力鋼板B1に放射することによって加熱するものである。赤外線加熱装置100は、赤外線照射ユニット11、加工材料載置テーブル15、及び制御装置19を有している。赤外線照射ユニット11のように、複数の赤外線ランプ111、複数のリフレクタ113をマトリックス状に配置することによって、1枚の高張力鋼板B1に対して、領域毎に複数種類の加熱状態を形成する。例えば、1枚の高張力鋼板B1を右側領域と左側領域に分けて、それぞれ1000℃、300℃というように、2つの別の温度に加熱することができる。この場合、赤外線照射ユニット11の場合、マトリックス状に配置されている赤外線ランプ111のうち、左側の2列については比較的低い出力で、その他領域については高出力で、赤外線ランプ111を照射する。 (もっと読む)


【課題】冷却洗浄液を用いるリフレア加工を行うリフレア加工装置の提供
【解決手段】リフレアパンチ11は、内部に冷却洗浄液が流れる冷却洗浄液供給路R1を有している。冷却洗浄液供給路R1は、供給路R3及び4本の供給路R5を有している。供給路R3は縦方向の中心軸に沿って、供給路R5は半径方向に向かって、それぞれ形成されている。リフレアパンチ11では、内部の冷却洗浄液供給路R1から、先端部T11の冷却洗浄液供給孔K11を介して冷却洗浄液を先端部T11の外周面S11に供給する。外周面S11から供給された冷却洗浄液は、嵌合部11がアルミプレート21の立ち上げ部C21と嵌合していくのにあわせて、立ち上げ部C21との隙間を通って中間部T13の外周面S13へと流れていく。よって、冷却洗浄液の流れと共に、先端部T11、中間部T13に付着している加工粉を除去することができ、加工粉に基づく金型の焼き付きを防止できる。 (もっと読む)


【課題】冷却洗浄液を用いる、絞り、しごき、若しくは絞りしごき加工を行うアイアニング加工装置の提供
【解決手段】アイアニングパンチ11は、内部に冷却洗浄液が流れる冷却洗浄液供給路R1を有している。冷却洗浄液供給路R1は、供給路R3及び4本の供給路R5を有している。供給路R3は縦方向の中心軸に沿って、供給路R5は半径方向に向かって、それぞれ形成されている。アイアニングパンチ11では、内部の冷却洗浄液供給路R1から、先端部T1の冷却洗浄液供給孔K11を介して冷却洗浄液を先端部T1の外周面S1に供給する。外周面S1から供給された冷却洗浄液は、外周面S1〜中間部T3の外周面S3〜基部T5の外周面と流れていく。よって、冷却洗浄液の流れと共に、先端部T1、中間部T3、及び基部T5に付着している加工粉を除去することができる。ひいては、精密加工において、加工粉に基づく金型の焼き付きを防止することができる。 (もっと読む)


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