説明

株式会社TIにより出願された特許

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【課題】成膜される膜の膜厚均一性に優れた成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】容器131と,容器131内を加熱するヒータ137と、容器131内に設けられ、液体状または固体状の成膜材料135がその内部に置かれ、気体状となった成膜材料を容器131内に供給する成膜材料供給部133と、容器131に設けられた開口部136と、被成膜体11を開口部136の最外部よりも内側に位置させる回転ドラム110と、開口部136と連通する真空容器102と、真空容器102を排気する真空ポンプ103と、を備える。 (もっと読む)


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