ＡＬＤ及びＭＯＣＶＤ法などの薄膜堆積プロセスに使用される前駆体材料を保持するための前駆体ソース容器を記載する。特に、該容器は、液体前駆体又は溶解前駆体溶液及び濯ぎ溶媒の両方を別個のチャンバに保持し、総体的なスペース要件を削減している。一態様において、シリンダー内シリンダーの配置が、二つの別個のチャンバ、すなわち一つは前駆体溶液用、もう一つは濯ぎ溶媒用のチャンバを提供している。 （もっと読む）

滅菌低温流体を製造するための方法を開示する。常温ガスストリームがろ過によって滅菌され、熱交換器に供給され、結果として低温滅菌流体が形成される。熱交換器からの廃ガスストリームは第２のろ過ユニットに供給され、そして常温滅菌廃ガスストリームは第２の熱交換器に供給されて更なる低温滅菌流体を製造し、結果として滅菌プロセスにおいて用いられるガスのより効率的な使用をもたらす。 （もっと読む）

本発明は、堆積層の形成における低揮発性化合物の使用、及びかかる堆積を達成する方法に関する。特定の適用性は、半導体素子のための堆積層の分野である。低蒸気圧の溶質（原材料）及び蒸気圧より何桁か低い蒸気圧を有する溶媒からなる溶液が記載されている。この溶液を、溶媒の蒸発及び溶質の分解を最小限にしつつ、溶質の急速で効率的な気化を可能にするために構成された気化装置に導入する。 （もっと読む）

一酸化炭素を必要に応じて生成することを可能にし、生成現場への一酸化炭素の輸送又は現場における大量の一酸化炭素の貯蔵の必要性をなくす、カーボンナノチューブ生成反応器上流におけるドライリホーミング又は部分酸化の統合プロセスを説明する。そのような統合プロセスの実施を可能にする装置もまた提供する。カーボンナノチューブ生成プロセスから二酸化炭素の排出を排除することが出来る。これは、二酸化炭素副生成物を再利用し、それを部分酸化プロセスへの供給と混ぜ合わせることによって達成できる。 （もっと読む）