説明

スモルテック アーベーにより出願された特許

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テンプレート、およびリソグラフィを目的とした、ナノ構造を用いてナノスケールで高アスペクト比テンプレート、スタンプおよびインプリンティングを製造する方法、ならびに材料および製品に穿孔するためのテンプレートの使用。
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一又は複数のナノ構造の作成方法が開示されており、当該方法は:基板の上部表面上に導電層を形成すること;導電層上に触媒のパターン層を形成すること;触媒層上に一又は複数のナノ構造を成長させること;及び一又は複数のナノ構造の間及び周囲の導電層を選択的に除去することを含んでなる。デバイスもまた開示されており、該デバイスは、基板、ここで基板は一又は複数の絶縁領域によって隔てられた一又は複数の露出金属島を含んでなる;一又は複数の露出金属島又は絶縁領域の少なくともいくつかを覆う基板上に配された導電性補助層;導電性補助層上に配された触媒層;及び触媒層上に配された一又は複数のナノ構造を含んでなる。 (もっと読む)


2つの導電面または導電層と、これら2つの導電面または導電層の間に電気的または熱的接続部を生成するように2つの導電面または導電層に接合されたナノ構造体アセンブリとを備える装置、およびその製造方法。
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