説明

株式会社ソイルテックにより出願された特許

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【課題】廃水、浸出水などの水性媒体に含有される低濃度の1,4−ジオキサンの分解除去技術を提供する。
【解決手段】1,4−ジオキサンを含む水性媒体を曝気することにより1,4−ジオキサンを気化させ、曝気後の気体中に含まれる気化した1,4−ジオキサンに対し紫外線を照射して分解する水性媒体中の1,4−ジオキサンの分解除去方法および装置。
【効果】簡便な装置により経済的に1,4−ジオキサンの分解処理が行える。また、如何なる水性媒体にも適用が可能である。 (もっと読む)


【課題】廃水、浸出水などの水性媒体に含有される低濃度の1,4−ジオキサンの分解除去装置を提供する。
【解決手段】(1)1,4−ジオキサンを含有する水性媒体の導入口7、該水性媒体に曝気用の気体を導入して1,4−ジオキサンを気化させる曝気装置10、曝気後の気化した1,4−ジオキサンと曝気用の気体からなる混合気体を紫外線照射装置に導く混合気体出口13、および処理済みの水性媒体を排出する排出口12を配設した曝気槽2、および(2)該混合気体の導入口15、該混合気体の滞留部16および排出口13を有し、該滞留部16に導入された混合気体に含まれる1,4−ジオキサンを分解させるための紫外線照射装置を有する1,4−ジオキサン分解装置3、を備えた水性媒体中の1,4−ジオキサンの分解除去装置。
【効果】簡便な装置により経済的に1,4−ジオキサンの分解処理が行える。また、種々の水性媒体への適用が可能である。 (もっと読む)


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