説明

有限会社カイにより出願された特許

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【課題】食品製造施設や調理施設等の処理対象物の表面において生じる汚れ(残渣)を有効に分離除去して抗菌作用を長く保持することができる、酵素処理液を使用する洗浄、塗布および抗菌処理方法を提供する。
【解決手段】100重量の水または湯水(80℃以下)に、酵素として、パパインを0.2〜1.2重量部、パンクレアチンを0.1〜1.4重量部、助剤として、アデノシン三リン酸二ナトリウム塩を0.2〜2.4重量部、バチルス菌系プロテアーゼを0.2〜1.2重量部、L−グルタミン酸を0.2〜1.0重量部、からなる酵素処理剤を、添加混合して作成した酵素処理液を使用し、処理対象物に対し洗浄ないし塗布して抗菌処理する。 (もっと読む)


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