トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス、 インコーポレイテッドにより出願された特許
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誘導結合プラズマのプラズマ分布および性能を改善する装置
【課題】高密度で均一なプラズマが生成される誘導結合プラズマ装置を提供する。
【解決手段】プロセス・チャンバに電気エネルギを結合して該プロセス・チャンバ内でプロセス・ガスからプラズマを発生させるための要素10であって、要素10は、長さ方向に沿って順次配置された多数のコイル・ターン32を有する単一のコイルで構成される導電性要素10であり、コイル・ターンの少なくとも一つ34aは、プラズマ処理システムの誘電体ウインドウにほぼ平行な第1平面36に配向され、コイル・ターン32の少なくとも一つ34bは、第1平面36と角度をなす第2平面38に配向されている。
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