【課題】 本発明は、ＲＦ電極に一体化されたガス分配ユニットと、ガス流出部とを備えた容量結合式の平行平板型プラズマ促進化学気相堆積前記反応容器に関する。本発明の目的は、高い厚さの均質性及び品質を持つ層を作成可能である上記したような平行平板型反応容器を提供することにある。
【解決手段】 その目的は、ガス分配ユニットが、ガス分配ユニットによるガス分配とガス放出分布の独立した調整をもたらすように構成された多段のシャワーヘッドを備えている容量結合式の平行平板型プラズマ促進化学気相堆積反応容器によって達成される。
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本発明は、少なくとも１つの基板を担持した少なくとも１つの基板キャリアを中に導入することができる少なくとも１つの排気可能なプロセス・チャンバと、プラズマ発生モジュールと、少なくとも１つのガス供給部と、少なくとも１つのガス排出部とを備える基板処理装置に関する。さらに、本発明は、少なくとも１つの基板を担持した少なくとも１つの基板キャリアが少なくとも１つの排気可能なプロセス・チャンバに導入され、プロセス・チャンバ内で、プラズマ・プロセスにおいてプラズマ発生モジュールによってガスまたはガス混合物中でプラズマが発生され、基板のコーティング、エッチング、表面改質、および／または洗浄が行われる基板処理方法に関する。本発明の目的は、十分に表面テクスチャ加工された基板でさえ高いスループットおよび高品質で等方性エッチングすることができる、上記の一般的なタイプの基板処理装置および基板処理方法を提供することである。この目的は、まず、上記の一般的なタイプの基板処理装置であって、気相エッチング・モジュールがプロセス・チャンバ内に組み込まれた基板処理装置によって実現される。さらに、この目的は、上記の一般的なタイプの基板処理方法であって、プロセス・チャンバ内で、少なくとも１つの基板の気相エッチングが、プラズマ・プロセスの前に、および／またはプラズマ・プロセスの後に、および／またはプラズマ・プロセスと交互に行われる基板処理方法によって実現される。
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