説明

株式会社メープルにより出願された特許

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【課題】 セレン化を均一に且つ短時間で行うことができるセレン化炉及び化合物半導体薄膜の製造方法並びに化合物薄膜太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバー11、14と、前記チャンバー11内にセレン化ガスを含む処理ガスを高圧で導入するガス供給源25、26と、前記ガス供給源と前記チャンバーとの間に設けられて当該チャンバー内に導入されるガスを常圧より高く所定の圧力に調整するガス圧調整手段28と、前記チャンバー内を加熱する加熱手段12と、前記チャンバー11内のガスを排出する排出手段22、29と、前記チャンバー内に被処理物2を載置するための置台18とを具備する。 (もっと読む)


【課題】密閉された真空容器の内部を洗浄し、真空容器内に堆積した塩化物を除去することができるドライ洗浄装置を提供する。
【解決手段】真空容器10と、前記真空容器10内にハロゲン系ガスを導入するガス供給手段11と、前記真空容器10内を排気して所定の圧力にする排気手段12と、前記真空容器10内に被処理物を載置するための置台13と、前記真空容器10内を加熱する加熱手段14とを具備するドライ洗浄装置1において、前記真空容器10内に洗浄液20を導入して排出する液導入排出手段15と、前記排気手段12とは別に設けられ前記真空容器10内を排気して乾燥する乾燥排気手段16とを具備する。 (もっと読む)


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