【課題】構成枠を貯蔵ステーションから真空テーブル・アセンブリまで移動するためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】システム２０は、２つの構成枠ハンドラ１６０ａ、１６０ｂ及びピックアンドプレースメカニズム２５０を含む。構成枠ハンドラ１６０ａ、１６０ｂは、構成枠５０を貯蔵ステーション１００からピックアンドプレースメカニズム２５０まで移動する。構成枠５０は、構成枠ハンドラ１６０ａ、１６０ｂに連結される又はそれにより担持される整列モジュール又は構造を含む。構成枠５０の空間的整列は、構成枠ハンドラ１６０ａ、１６０ｂからピックアンドプレースメカニズム２５０への構成枠５０の移動前に本質的に完了され得る。ピックアンドプレースメカニズム２５０は、真空テーブル・アセンブリ３００での構成枠の解放及びピックアップと同様に構成枠ハンドラ１６０ａ、１６０ｂから構成枠５０をピックアップする真空パッド１８０を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の異なるサイズのウエハー又はフィルム・フレーム又は太陽電池パネル（「構成枠」）を処理、担持、捕獲、保持、回収及び／又は移動するように構成される構成枠の処理装置を提供する。
【解決手段】構成枠処理装置２０は多くの様々な位置の間で移動することができる少なく１つの構成枠捕獲要１００を含み、各々の位置は、特定の構成枠サイズに対応する。構成枠処理装置２０はまた、少なくとも１つの構成枠捕獲要素１００の異なる位置への移動を制御及び／又は達成するように構成される位置整列メカニズムを含む。構成枠処理装置２０はまた、少なくとも１つの構成枠捕獲要素１００に連結される少なくとも１つの移動アーム２００を含み得る。少なくとも１つの構成枠捕獲要素１００の移動は、少なくとも１つの移動アーム２００の少なくとも一部の移動、回転及び／又は並進によって達成され得る。 （もっと読む）

【課題】照明が単一の方向だけから捕らえられる場合に起こる可能性がある反射された強度変化の結果としての基体表面の態様の不正確なまたは不完全な特徴付けを克服する。
【解決手段】基板１２の表面から複数の方向において反射される照明を同時に捕らえるように構成される。一組の照明器５２ａ５２ｂと、表面を離れて反射された照明の少なくとも２つのビームを同時に捕らえるように構成される画像捕獲装置である３Ｄ輪郭カメラ５６とを含む。画像捕獲装置によって同時に捕らえられる照明の少なくとも２つのビームは、反射されたそれらの移動通路間で異なる角度の分離を有する。一連の照明器は、表面に入射する細線照明の一以上のビームを供給するために配置され、構成される一組の細線照明器を含むことができる。例えば、細線照明の２つのビームは、表面の垂直軸に異なる入射角で表面に導くことができる。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法およびシステム。
【解決手段】 このシステムは、光検査ヘッド、ウェーハテーブル、ウェーハスタック、ＸＹテーブルおよび振動絶縁装置を含む。光検査ヘッドは、複数の照明器、画像収集装置、対物レンズおよび他の光学部品を含む。このシステム及び方法は、明視野画像、暗視野画像、３Ｄ形状画像および検査画像の収集を可能にする。収集画像は、画像信号に変換され、かつ処理のためにプログラマブルコントローラに伝送される。ウェーハが動いている間、検査が実行される。収集画像は、ウェーハ上の欠陥を検出するための基準画像と比較される。基準画像を作り出すための例示的な基準作成プロセスおよび例示的な画像検査プロセスもまた、本発明によって提供される。基準画像作成プロセスは、自動プロセスである。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハを検査するための検査システム。
【解決手段】 この検査システムは、広帯域照明を供給するための照明設定を備える。広帯域照明は、異なるコントラスト、例えば明視野および暗視野広帯域照明であることができる。検査システムは、第１の画像収集装置および第２の画像収集装置を更に備え、半導体ウェーハが動く間、各々が半導体ウェーハの画像を収集するために広帯域照明を受け取るために構成される。システムは、広帯域照明の平行を可能にするための複数のチューブレンズを備える。システムはさらに、安定化メカニズムおよび対物レンズ組立体を備える。システムは、細線照明エミッタ、および半導体ウェーハの３次元画像をそれによって収集するために細線照明を受け取るための第３の画像収集装置を更に備える。システムは、第３の画像収集装置が、複数の方向に半導体ウェーハから反射される照明を受け取ることを可能にするための反射器組立体を備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェーハを検査するための方法。
【解決手段】 この方法は、基準画像を作り出すためのトレーニングプロセスを備える。トレーニングプロセスは、未知の品質の第１のウェーハの複数の画像を収集するステップを含み、第１のウェーハの複数の画像の各々が所定のコントラスト照明で収集され、および第１のウェーハの複数の画像の各々が複数の画素を備える。トレーニングプロセスはさらに、第１のウェーハの複数の画像の各々の複数の画素の各々に対する複数の基準強度を決定するステップと、第１のウェーハの複数の画像の各々の複数の画素の各々の複数の基準強度に対する複数の統計的パラメータを算出するステップと、算出された複数の統計的パラメータに基づいて第１のウェーハの複数の画像から複数の基準画像を選ぶステップとを含む。ウェーハを検査するためのこの方法は、第２のウェーハの画像を収集するステップであって、第２のウェーハが未知の品質であるステップと、複数の基準画像から第１の基準画像を選ぶステップと、第２のウェーハ上の欠陥の存在およびタイプの少なくとも１つをそれによって決定するために第１の基準画像と第２のウェーハの収集画像を比較するステップとを更に含む。
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