本発明は、材料表面に炭素、シリコン、及びゲルマニウムから選択される元素が含まれる該材料上への化合物のグラフティング方法に関する。本グラフティング方法は、ａ）表面に、少なくとも１個の水素原子を有するｓｐ^３混成軌道炭素原子、シリコン原子、及び又はゲルマニウム原子が含まれる材料を供給する工程、及びｂ）工程ａ）において供給された材料を溶媒中において少なくとも１個の未プロトン化アミン官能基を含む化合物（Ｃ）と接触させて該化合物（Ｃ）を前記表面上へグラフティングする工程から構成される。 （もっと読む）