説明

ラフバロー ユニバーシティにより出願された特許

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二次元光路分布の絶対測定を行う装置であって、本装置は、複数の波長を有する光を物体(26)に照射する光源(4)と、物体の少なくとも一部分の画像を形成する干渉計(12)であって、この少なくとも一部分の画像は広帯域干渉図形を含む、干渉計(12)と、干渉計と光通信を行い、広帯域干渉図形を複数の狭帯域二次元干渉図形(72、74、76)にスペクトル的に分離するハイパースペクトル撮像装置(30)と、狭帯域干渉図形を空間的に位置合わせする位置合わせ装置(38)と、各狭帯域干渉図形内の対応する画素から一次元強度信号を抽出する抽出装置と、物体上の各点における周波数を、各点に関連付けられた一次元強度信号から計算する計算装置(100)と、を含む。 (もっと読む)


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