本発明は、ニッケルまたはその合金の少なくとも一つの表面層を含む基板上に触媒活性を持つ表面層を作成する方法を提供する。より詳しくは、この方法は、前記基板の表面を酸化して、酸化ニッケルのアンカー層を得、コロイド状シリカを前記アンカー層に塗布し、得られた基板の表面を加熱して、シリカと酸化ニッケルとの間の作用を促進し、ついで、前記表面を、その酸化物およびそのシリケートの双方をニッケル金属に還元する還元雰囲気での処理によって活性化する、操作を含むことを特徴とする。本発明の方法により作成された薄いナノ構造層は、直接金属／ガス接触により、迅速に高い水素吸着値（約０．７のＨ／Ｎｉ値）を示す。 （もっと読む）