【課題】レジスト組成物の成分、特に酸発生剤として利用できる新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は（メタ）アクリロイル基を除く有機基であり；Ｒ^２は直鎖または分岐鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基またはフッ素化アルキレン基であり；Ｒ^３は置換または無置換のフェニル基、１−ナフチル基または２−ナフチル基であり；Ｒ^４は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。］で表される化合物。Ｒ^３は置換または無置換の１−ナフチル基または２−ナフチル基であることが好ましい。Ｒ^１は、置換または無置換のアルキル基であることが好ましい。
［化１］
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【課題】レジスト組成物の成分として利用できる高分子化合物用のモノマーとして有用な新規化合物、および該化合物の製造用として有用な新規化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物［式中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基であり；Ｒ^２は直鎖または分岐鎖状の炭素数１〜５のアルキレン基またはフッ素化アルキレン基であり；Ｒ^３は置換基を有していてもよいフェニル基またはナフチル基であり；Ｒ^４は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。］。下記一般式（ＩＩＩ−１）で表される化合物。下記一般式（ＩＶ−１）で表される化合物。下記一般式（Ｖ−１）で表される化合物。各
［化１］
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