【課題】配線基板の内部配線層の数を一定とした場合において、ＤＵＴ部内に配設することが可能な特定電極パッドの数を導出することが可能な配線基板の製造技術を得、これによって、ＤＵＴ部内に所定の数の特定電極パッドを配設する際に必要とされる内部配線層の最低数を導出することができ、配線基板を小型化及び簡略化する。
【解決手段】特定内部配線層の層数をＡ、各ＤＵＴ部内に配設された複数の表面電極パッドの列数をＮ、及び各ＤＵＴ部内に配設すべき特定表面電極パッドの個数をＢとした場合において、特定表面電極パッドの個数Ｂは、
Ｂ＜（Ｘ＋１）×Ａ
（Ｘは、１からＮまでの自然数）
なる関係式を満足するようにする。 （もっと読む）

【課題】噴流式の半田付け装置において、装置の大型化、複雑化、メンテナンス性の低下なく、酸化物の発生を抑制すること。
【解決手段】一次噴流９、二次噴流１０の溶融半田３への落ち込み領域９ａ、１０ａに向けて窒素吹出ノズル１１、１２、１３から窒素ガスを吹き付け、また領域１７にも窒素吹出ノズル１４から窒素ガスを吹き付ける。落ち込みで発生する気泡内の内外が窒素リッチになるので酸化を効率よく抑制できる。気泡が漂い集まる領域１７の雰囲気も窒素リッチになるので気泡の外面での酸化を抑制できる。窒素吹出ノズル１１、１２、１３、１４を半田槽２に取り付けるだけで済み、大型化、複雑化せず、メンテナンス性を悪化させない。 （もっと読む）

【課題】 ２本の吸着筒Ｔ１、Ｔ２を備える窒素発生装置において、構造と制御を単純化すること。
【解決手段】窒素発生装置１は、ロータリ弁ＲＶ−１が第１筒加圧ポジション、第１均圧ポジション、第２筒加圧ポジション、第２均圧ポジションを順に繰り返すことで高純度の窒素ガスを生成でき、多数の電磁弁も、それら電磁弁を制御するためのタイマーやリレー等も、また吸着筒と電磁弁とを相互に接続するための複雑な管路も不要になり、構成を単純化できる。メカニカル弁ＭＶ１、ＭＶ２にて、第１筒加圧ポジションの後半には高濃度の窒素ガスを第２吸着筒Ｔ２に導入し、第２筒加圧ポジションの後半には高濃度の窒素ガスを第１吸着筒Ｔ１に導入するので、生成される窒素ガスの純度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】オゾン発生装置から洗顔容器にオゾンだけでなく炭酸ガスも供給可能にする。
【解決手段】オゾン供給装置１のケース２の内部にはオゾン発生器６、ポンプ７、逆止弁８、１０などが内蔵され、アウトプットノズルには洗顔容器１２が、インプットノズルには炭酸ガスボンベ１４が接続される。オゾン供給装置１を稼働させると、ポンプ７からオゾン発生器６に送り込まれた空気の酸素がオゾンに変化させられ、オゾンを含んだ空気がアウトプットノズルから洗顔容器１２に供給される。オゾンを用いた洗顔後にオゾン供給装置１を停止させ、炭酸ガスボンベ１４からの炭酸ガスをインプットノズルに供給すれば、その炭酸ガスが洗顔容器１２に供給される。 （もっと読む）

【課題】パーマネント施術における還元処理に要する時間を短縮する。
【解決手段】吐気ガン２はイオン発生器２ａを内蔵し、窒素ボンベ３から供給された窒素ガスをマイナスイオン化して吐出する。還元処理時に、マイナスイオン化した窒素ガスを吐気ガン２から毛髪に吹き付けると、マイナスイオン化された窒素ガスに由来する電子によって還元剤による還元作用が促進される。これにより、毛髪の還元処理に要する時間が短縮される。 （もっと読む）