本発明は、レーザアブレーションマイクロリソグラフィに関する。具体的には、画素毎に複数のミラーを使用して、ミラーに損傷を与えない程度にＳＬＭミラー面上のエネルギー密度を維持しつつ、レーザアブレーションを容易にするエネルギー密度にエネルギーを集中させる、新たなＳＬＭ設計およびパターニング方法を開示する。複数のマイクロミラーは、現行のＤＭＤ装置をはるかに超える非常に高い周波数で再設定することができる。
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パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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本発明は、カスタムパターンを直接的に書き込むことにより、基板上に作製されたチップ、フラットパネル、又は他の電子機器のような、個々のワークピースをカスタマイズすることに関連する。カスタマイズを、デバイスごと、基板ごと、バッチごとに行うか、またはカスタムマスク或いはマスクセットを使用するのに実用的でない他の小規模で行うことができる。本発明は、特に、基板上の放射感応性層に形成された潜像をカスタマイズして、標準パターンデータおよびカスタムパターンデータを合成して、カスタマイズされた潜像生成用のカスタムパターンを形成することに関連する。 （もっと読む）

パターン生成システムは、光学系（１０６）および回転子（１００）を備えている。光学系（１０６）は、光学スキャナｃ（１０４）にレーザ像を投影するように構成されている。回転子（１００）は、互いに対して第１角度で配置された複数の光学アーム（１０２）を有し、光学スキャナ（１０４）をさらに備えている。レーザ像は、光学スキャナ（１０４）によって回転子（１００）の複数の光学アーム（１０２）の各々に順次反射され、ワーク上にパターンを生成する。
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リソグラフィ加工物処理装置は、加工物をロードするローディングエリア（１０８）と、加工物を処理する処理エリア（１０６）とを含む。加工物処理装置はさらに、ローディングエリアと処理エリアとの間に配置されたマルチテーブルシステム（１０）を含む。マルチテーブルシステムは、ローディングエリアと処理エリアとの間を移動しながら、すれ違うように構成された少なくとも２つのテーブル（１１０，１１２）を含む。少なくとも２つのテーブルはそれぞれ、加工物を保持するように構成される。
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本開示は画素データの再サンプリングに関し、特定のアプリケーションはマイクロリソグラフィである。本開示は特に、変調器がラスタライズ画像上を横断する方法に応じてラスタライズ画像から変調器画素を抽出することに関する。
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開示される技術は、画像の読み取りおよび書き込みのために大型の平坦な基板のスキャンを行なうことに関する。例として、フラットパネルディスプレイ、ＰＣＢ、および光起電性パネルが挙げられる。読み取りおよび書き込みは、広義で理解されるべきであり、読み取りは、大きな被加工物の顕微鏡検査、点検、計量法、分光法、干渉分光法、光波散乱計測法などを意味し、書き込みは、フォトレジストの露光、光加熱によるアニーリング、焼灼、または光線によって表面に任意の他の変化を発生させることを意味し得る。特に、従来の直線運動に従う代わりに、スキャンするときに被加工物（１１１１、１１１２）上に円弧を描くような回転もしくは旋回アーム（１１４０Ａ、１１４０Ｂ、１１４０Ｃ）を使用する技術が開示される。
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マイクロリソグラフィまたはマイクロリソグラフィパターンなどの精査において、表面上へのパターンの書込または読出に関する。並列変調した複数の光学、電子、粒子ビームのような、疎の２次元点配列またはグリッドで表面上を走査することで、画像の記憶または読出システム。走査と、読出または書込の繰返とによって、ワークピース上に高密度の画素またはスポットグリッドが作成される。大型配列の使用の裏には、スループットの向上という概念がある。しかし、特定の配列サイズを超えると、従来知られているスキームは自体の手順に嵌ってしまい、同じデータを延々と繰返し始めるので、スループットは配列サイズに釣合わない。本願は、大規模配列でワークピースを走査する一方で、非常に大規模な配列の場合でも、実際には本質的に規模の制限なく、配列サイズに比例したスループットのスケーリングを保存する方法を開示する。
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