【課題】 抵抗加熱ヒータの劣化に起因する抵抗値の変化を高い分解能で検出することにより、抵抗加熱ヒータの交換時期を正確に予測できる電力供給システムを提供する。
【解決手段】 電力供給システム１００は、抵抗加熱ヒータ１０６、供給電力調節器１１０、温度調整用調節計１３０、抵抗検出装置１４０、及び熱電対１３１、１４１を備えている。供給電力調節器１１０は、入力側フィルタ回路１１１、ＩＧＢＴ変換器１１２、カレントトランス１１３、電圧測定ライン１２３、電源変動検出手段フィードフォワード回路１１４、周波数変換回路１１５、出力側フィルタ回路１１６、カレントトランス１１７、電圧測定ライン１１８、及び負荷変動検出手段フィードバック回路１１９を備えている。抵抗検出装置１４０は、演算器（ＣＰＵ）１４４、ヒータ製作時基準テーブル１４５、及びヒータ温度係数テーブル１４６を備えている。 （もっと読む）

【課題】複数の基板を同時に表面処理する場合に、全ての基板の表面を均一に処理できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】複数の基板１１２を傾斜させて、かつ、間隔をあけて垂直方向に積層保持する縦型基板保持具と、前記複数の基板の間隔よりも狭い間隔で垂直方向に配置された複数のガス導入口１５７と、を備え、前記縦型基板保持具を、その長手方向を回転軸として回転させる事で、傾斜した前記基板面に衝突したガス流が攪拌されて全ての基板に均一に原料ガスが供給された後に垂直方向に配置された複数のガス排気口１５８から排気される。 （もっと読む）

【課題】 ウェハへの汚染が少なく加熱容器のシール性を向上する。
【解決手段】 気密構造の容器と、容器内に収納される基板を保持する基板保持手段と、容器の上壁を透過して基板を加熱するランプユニットと、容器の外周に設けられ容器の鉛直軸を中心に回転する円筒状の外部ロータと、容器内に嵌められ基板保持手段を外部ロータと同心に回転させる円筒状の内部ロータと、外部ロータと内部ロータとを容器の側壁を介して磁気的に結合し外部ロータにより内部ロータを回転させる磁気結合手段と、内部ロータにガスを流し内部ロータを浮上支持させるガス軸受と、を備え、磁気結合手段は外部ロータに設けられた磁石と内部ロータに設けられた磁性体とを有し、基板保持手段を回転させる際に外部ロータに設けられた磁石の上面を内部ロータに設けられた磁性体の上面より高い位置に保持する。 （もっと読む）

【課題】比較的大口径の基板に対して基板処理を行う場合であっても、その基板に対して均一に基板処理を行うことが可能な基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１０１は、複数の基板（ウエハ）２００を略垂直姿勢で横方向（略水平方向）に配列した状態で保持する基板保持具２１７と、基板保持具２１７を収容する処理管（プロセスチューブ）２０５と、処理管２０５の開口部を密閉する炉口側シール部（炉口側メカフランジ部）２１９０と、炉口側シール部２１９０に設けられ、複数の基板２００の配列方向（基板の２００が保持される方向）を基準に該基板の周方向に、基板保持具２１７を回転させる回転部２５５と、を有し、基板保持具２１７は、基板２００を略垂直姿勢で固定する固定部（可動保持部２１７ｃ）と固定保持部２１７ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】基盤処理装置の基板処理系の少なくとも一部を構成する部材に対して、予め規定された部材（純正部材）か、それ以外の部材かを比較的簡単に判別することが可能な基板処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板処理装置１０は、基板を処理する基板処理系１００と、基板処理系１００を制御するコントローラ２４０と、を有する。基板処理系１００の少なくとも一部を構成する部材５０は、その部材５０を識別する識別コード５を読み取り可能に記録する記録手段（タグ５１）を備える。コントローラ２４０は、部材５０に備えられた記録手段（タグ５１）から識別コード５を読み取る読取部（リーダライタ：ＲＷ４１）と、純正部材に関する識別コード５６２を記憶する記憶部（外部記憶装置２３９ｄ）と、識別コード５６２と識別コード５とを比較する機能（比較部２３９１）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】複数の発熱体の複数の温度測定器に対する影響があっても、基板の温度を正確かつ容易に制御することを可能にする。
【解決手段】基板を処理する処理室と、前記基板を加熱する複数の発熱体と、前記基板の温度を測定する複数の温度測定器１３９と、温度目標値と前記複数の温度測定器が測定する測定値とのそれぞれの偏差をまとめて一つの演算で処理し、この処理結果を用いて前記複数の発熱体それぞれの出力量を制御する制御部８１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ヒータの分割部の詳細な温度制御ができ、ヒータの応答性と容易な温度傾斜制御結果を得ることができ、外乱の影響を受けにくい安定温度制御を行うことができる温度制御システム、基板処理装置、及び半導体製造装置を提供する
【解決手段】基板処理装置１００は、ウェーハ２００を処理する処理室２０１と、処理室２０１内の基板を加熱する複数のゾーンに分割されたヒータＨとを有し、ヒータＨは、上部及び下部が他の部分より細かくゾーン分分割され、上部よりも下部が細かくゾーン分割されている。 （もっと読む）

【課題】 ガードリングの均熱性を保つことによって、基板の均熱性を保つことを可能とする。
【解決手段】 熱処理装置は、ウェハＷを収容する加熱容器１０と、加熱容器１０外に設けられ、加熱容器１０内に収容されるウェハＷを加熱するランプユニット３０と、加熱容器１０内に設けられ、加熱容器１０内に収容されるウェハＷを保持するためのサセプタ２２とを備える。熱処理装置は、さらに、サセプタ２２に保持されて、ウェハＷの周縁部を支持するリング状のガードリング２５と、サセプタ２２に保持されて、ガードリング２５の外周部に、ガードリング２５と同じ材料で構成され、ガードリング２５に対して近接させてリング状に配設されるガードリングガード２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ウェハへの汚染が少なく加熱容器のシール性を向上する。
【解決手段】 円筒状の側壁１１０、上壁１２０、底壁１３０からなる気密構造の加熱容器１００と、加熱容器１００内に収納されるウェハＷを保持する基板保持手段５００と、加熱容器１００の上壁１２０を透過してウェハＷを加熱するランプユニット２００とを備える。加熱容器１００の外周に設けられ、加熱容器１００の鉛直軸を中心に回転する円筒状の外部ロータ３００と、加熱容器１００の内周に設けられ、基板保持手段５００を外部ロータ３００と同心に回転させる円筒状の内部ロータ４００と、外部ロータ３００と内部ロータ４００とを加熱容器１００の側壁１１０を介して磁気的に結合して、外部ロータ３００の回転運動を内部ロータ４００に伝達して基板保持手段５００を回転させる磁気結合手段６００と、内部ロータ４００にガスを供給し、そのガスの圧力を利用して内部ロータ４００を浮上支持させるガス軸受１０００とを備える。 （もっと読む）