【課題】多数枚のウェハが積層された状態の積層ウェハ群からウェハを分離し、分離したウェハを一枚ずつ所定の箇所にい載する作業において、分離するウェハに対し摩擦や変形等によるストレスをできるだけ与えないようにして破損を防止することにより、ウェハの歩留まりをより向上させてウェハの安定供給ができる、ウェハの分離装置を提供する。
【解決手段】ウェハ分離装置は、水槽(2)と、水槽(2)の水面近傍となる位置に配されている噴出ノズル(3)と、積層ウェハ群(7)を保持し、水面側の噴出ノズル(3)による水の入水部へ積層ウェハ群(7)を移動させるウェハ供給機(4)と、積層ウェハ群(7)から分離したウェハを保持して所定の箇所に移載するウェハ移動機(5)とを備え、噴出ノズル(3)は、吐出された水が水面で空気を取り込んで、水中に水と多数の気泡を含む気液混合流が生じるよう配されている。 （もっと読む）

【課題】多数枚のウェハが積層された状態の積層ウェハ群からウェハを分離し、分離したウェハを一枚ずつ所定の箇所に移載する作業において、分離するウェハに対し摩擦や変形等によるストレスをできるだけ与えないようにして破損を防止することにより、ウェハの歩留まりをより向上させてウェハの安定供給ができる、ウェハの分離移載装置を提供する。
【解決手段】ウェハ分離移載装置は、水槽(2)と、水槽(2)の水面近傍となる位置に配されている吐出ノズル(3)と、積層ウェハ群(7)を保持し、水面側の吐出ノズル(3)による水の入水部へ積層ウェハ群(7)を移動させるウェハ供給機(4)と、積層ウェハ群(7)から分離したウェハを保持して所定の箇所(62)に移載するウェハ移載機(5)とを備え、吐出ノズル(3)は、吐出された水が水面で空気を取り込んで、水中に水と多数の気泡を含む混合流が生じるよう配されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜太陽電池パネルの絶縁加工を簡略化する。
【解決手段】ステップＳ１において、レーザ加工装置は、SHGレーザ光および基本波レーザ光を用いて、薄膜太陽電池パネルの周縁の透明電極層、半導体層、裏面電極層を除去する。ステップＳ２において、レーザ加工装置は、SHGレーザ光を用いて、透明電極層、半導体層、裏面電極層を除去した領域の内周付近の領域の半導体層、裏面電極層を除去する。本発明は、例えば、薄膜太陽電池パネルの絶縁加工を行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】所要数の加工ヘッドを有し、各加工ヘッドを固定し被加工物を平面内で動かすことによってレーザ光照射位置を制御して加工するレーザ加工装置において、各加工ヘッドのキャリブレーションを簡単に行うことができるようにする。
【解決手段】レーザ加工装置(L)は、照準を合わせることができる原点カメラ(7)と、原点カメラに対し移動調整ができる加工テーブル(1)と、加工テーブルに対し位置調整ができる複数の加工ヘッド(8,8a,8b)と、レーザ光の照射点に対し照準を合わせることができる加工ヘッドカメラ(9,9a,9b)を備え、加工テーブルは、その基準位置を調整する基準となる原点カメラ基準点(5)と、各加工ヘッドの加工テーブルに対する基準位置を調整する基準となる加工ヘッドカメラ基準点(6,6a,6b)を備えている。 （もっと読む）

【課題】加工点で発生した蒸発物やプラズマ、粉塵等の、基板内のデバイスを構成する部分に対する付着をより確実に防止し、デバイスとしての品質を低下させることなく薄膜積層ガラス基板の周辺部の不要な薄膜をレーザにより除去する。
【解決手段】薄膜除去装置(A)は、薄膜(51)を下側にして薄膜積層ガラス基板(5)を保持する受ピン(11)と、薄膜積層ガラス基板(5)のガラス板(50)側からガラス板(50)を通し加工部にレーザを当てて薄膜(51)の不要部分を除去するレーザ走査部(4)と、薄膜積層ガラス基板(5)の下方において非加工領域側から薄膜(51)の膜面と平行に気体を供給する気体供給部(2)と、気体供給部(2)で供給された気体と、加工部で生じた蒸発物やプラズマ、粉塵等を含む雰囲気を薄膜(51)の膜面と平行に各辺方向へ流れるように吸引する気体吸引部(3)を備えている。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工において、加工点に発生するプラズマ、蒸発物、溶融物、薄膜片等の飛散した塵を、レーザ光路を構成する光学素子を汚染することなく、加工点の上方から吸引することができるようにして、基板への塵の付着を抑制し、加工品質を安定させることができるレーザ加工用集塵装置を提供する。
【解決手段】レーザ加工用集塵装置(V)は、吸引装置と、吸引装置に通じておりレーザ光が通る吸引口(40)を有する吸引体(4)と、吸引体(4)の内部に設けられている除塵装置(5)とを備えている。除塵装置(5)にはレーザ光が通る除塵室(54)が設けられ、除塵室(54)は、レーザ光が透過可能で光学系(1)により射出されるレーザ光が通る光路を気密に塞ぐことができる光学素子(52)と、除塵室(54)内に圧縮気体を供給する給気路(55)と、レーザ光が通り吸引体(4)の吸引口(40)の近傍に位置して開口している排気口(540)及び圧縮気体を誘導して光学素子(52)の表面に沿って流れるようにする誘導排気口(542)を備えている。 （もっと読む）

【課題】薄膜が形成された基板にレーザ光を照射して薄膜の一部を除去するにあたり、薄膜を除去したい除去領域以外への熱影響を抑えて基板の割れ（クラック）の発生を防止すると共に、単位時間当たりの処理面積を向上させることができるようにした薄膜除去方法及び薄膜除去装置を提供する。
【解決手段】
本発明に係る薄膜除去方法では、基板２の薄膜１を除去したい除去領域１１に赤外波長域のレーザ光３を照射するにあたり、赤外波長域のレーザ光３を照射する前か、あるいは赤外波長域のレーザ光３の照射と同時にまたは本質的同時に、上記除去領域１１の境界となる部位１２ａ，１２ｂに紫外波長域のレーザ光４ａ，４ｂを照射する。 （もっと読む）