説明

株式会社三陽により出願された特許

1 - 1 / 1


【課題】 特に、安定して高精細の流路部を形成することが可能な流路デバイスの製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明の流路デバイスの製造方法は、第1基材1の基材表面に流路の形状パターンからなるマスク層3を形成する工程、前記基材表面から前記マスク層の表面にかけて第2基材2を接合する工程、前記第1基材あるいは前記第2基材の少なくとも一方に前記マスク層3にまで貫通する貫通孔4を形成する工程、前記貫通孔4から前記マスク層3を除去して前記流路を形成する工程、
を有することを特徴とする。 (もっと読む)


1 - 1 / 1