【目的】 遠紫外線、電子線、Ｘ線に対し、高感度、高解像度または定在波の発生および露光後の時間的経過よるパターン線幅の変化のない放射線感応性レジストおよびこれに用いられる新規重合体を提供すること。
【構成】 新規重合体は、ヒドロキシスチレン重合体または共重合体の水酸基を、一般式 −ＣＨ（ＣＨ₃ ）ＯＲ₁₁ＯＸＲ₁₂（式中、Ｒ₁₁はＣ₂ 〜Ｃ₆ のアルキレン基、Ｘは直接結合、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓ（Ｏ₂ ）−、−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−または−Ｃ（Ｓ）ＮＨ−を示し、Ｒ₁₂は１から６の炭素原子を有する直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基、１から６の炭素原子を有する置換アルキル基、６から１０の炭素原子を有するアリール基、６から１０の炭素原子を有する置換アリール基または７から１０の炭素原子を有するアルカリール基を示す）で示される酸感応性基で部分的に保護したもので、レジストは、この重合体と光酸発生化合物、塩基、添加剤、溶剤からなる。 （もっと読む）