【課題】レイアウトパターンを選択的に修正する方法を提供する。
【解決手段】まず少なくとも第一グループと第二グループを含む第一レイアウトパターンを設ける。当該第一グループと第二グループはそれぞれ複数のメンバーを含む。次に、第一グループと第二グループのすべてのメンバーに対してそれぞれシミュレーションプロセスと修正プロセスを実行し、修正された第一グループと修正された第二グループを取得する。その後、修正された第一グループと修正された第二グループが目標を達成するかを検証する。後に、目標を達成した修正された第一グループと目標を達成した修正された第二グループを含むレイアウトパターンを出力する。 （もっと読む）

【課題】多孔質低誘電率層を形成する方法が、記載されている。
【解決手段】ＣＶＤプロセスは、基板に導入され、ここで、枠体前駆体及びポロゲン前駆体は供給される。枠体前駆体の供給の終了期間において、ＣＶＤプロセスの生成物の密度と否定的に相関している少なくとも一つの堆積パラメータの値は、減少する。 （もっと読む）

【課題】液晶配向膜の製造方法を提供する。粉体および粒子が有機物配向膜上に生成されることを防止する。また、パターニングプロセスは、無機物配向膜設計の余裕が増加するように無機物配向膜上で実行する。
【解決手段】この液晶配向膜の製造方法は、有機物または無機材料の層上に配向処理を実行するために、基板上に有機物または無機材料の層を提供する段階を供給した後で、イオン注入プロセスを実行する段階を含む。配向処理は一種の非接触の方法であるので、それは有機物配向膜に損傷を与える蓋然性を低減し、粉体および粒子の生成を防止することができる。さらに、無機材料層は、配向処理の前に基板上に形成され、それにより、無機材料層は配向処理の前にパターン形成されることができる。 （もっと読む）