説明

株式会社大熊エンジニアリングにより出願された特許

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【課題】対象物を加熱することなく樹脂フィルムなどの絶縁体膜上に炭素系膜を成膜し、透明性を保つ形成法の提供。
【解決手段】炭素を含むガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ生成部によりプラズマ化し、このプラズマから引出電極によりイオンビームを引き出して加速し酸化シリコンをコーティングした対象物に照射することにより炭素原子と酸化シリコン原子が結合する事により、透明性の高いダイヤモンドライクカーボン膜の形成を行う。 (もっと読む)


【課題】対象物を加熱したり、対象物表面へ下地層を形成したりすることなく、低コストで炭素系膜を形成することが可能な炭素系膜の形成装置および形成方法の提供。
【解決手段】炭素を含むガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ生成部5によりプラズマ化し、このプラズマから引出電極7a,7bによりイオンビームを引き出して加速し、この引き出されたイオンビームを対象物X上へ照射することにより、対象物X表面の改質とこの対象物表面への炭素系膜の形成とを同時に行う。 (もっと読む)


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