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Fターム[2D040BB10]の内容

Fターム[2D040BB10]に分類される特許

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【課題】稼働中の構造物の直下の地盤内への、遮断壁の構築方法を提供すること。
【解決手段】立坑を構築する、立坑構築工程と、前記立坑から水平方向の地盤中に改良体を構築する、改良体構築工程と、からなり、前記改良体構築工程を繰り返して、鉛直方向に前記改良体が複数連続した遮断壁を地盤中に構築する、遮断壁構築方法。 (もっと読む)


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