【課題】複合構造物の健全性を監視するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】複合構造物１０は、複合材料及び複合材料内に配置された光ファイバー１６を含む。光ファイバー１６は、光ファイバー１６の非線形光学特性を高める複数の量子ドット１８を含む。量子ドット１８はコア内、金属被覆内、及び／又は光ファイバー１６の表面上に配置することができる。光ファイバー１６は、信号の伝播を支援し、複合材料内の欠陥を検出するように構成されている。量子ドット１８は、複合材料内の欠陥に応じて、二次効果などの非線形効果を引き起こす。量子ドット１８によってもたらされる非線形効果を含む信号の検出及び解析に基づいて、複合材料内の欠陥が検出されうる。 （もっと読む）

【課題】角度分解能を損なうことなく微小な被測定物の傾斜角度を広い角度範囲で高精度に測定することができる角度測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物６に光ビーム１３を出射する光出射手段１１と、被測定物６からの反射光ビーム１３Ａを受光する光受光手段１２と、光出射手段１１から出射した光ビーム１３を被測定物６に照射し、被測定物６の測定面からの反射光ビーム１３Ｂを光受光手段１２に導く光ファイバ１４と、光ファイバ移動機構１９と、被測定物移動機構２１と、光ビーム１３のスキャン角度と結像位置の関係に線形性を付与するレンズ２０と、光受光手段１２によって受光した反射光ビーム１３Ｂの強度から被測定物６の傾斜角度を算出する測定部１５等を備えている。レンズ２０としては、テレセントリックＦ−θスキャンレンズが用いられる。 （もっと読む）

【課題】光トモグラフィー計測を用いた光断層画像化システムにおいて、干渉信号のＳ／Ｎ比を向上させる。
【解決手段】一定の周期で波長を掃引した光を用いた光トモグラフィー計測において、反射光Ｌ３と参照光Ｌ２との干渉光Ｌ４が光分岐手段５により第１干渉光Ｌ４ａと第２干渉光Ｌ４ｂとに分岐される。第１干渉光Ｌ４ａと第２干渉光Ｌ４ｂとは、干渉光路長調整手段６０Ａ、６０Ｂにより光路長が同一になるように調整された後、干渉光検出手段７０においてバランス検波される。 （もっと読む）

【課題】光断層画像化装置において、偏光方向の調整をすることなく良好な画質の断層画像を低コストで取得する。
【解決手段】光断層画像化装置１００は、測定光Ｌ１を測定対象Ｓに照射させて所定の走査周波数で走査させて測定対象Ｓの断層画像を取得する。光断層画像化装置１００における、光源ユニット１０内または光源ユニット１０から合波手段４までの光Ｌ、測定光Ｌ１、参照光Ｌ２、反射光Ｌ３の光路の少なくとも１つに、時間的に平均したときに出力光が無偏光となるように入力光の偏光状態を走査周波数と同等もしくはそれ以上に高い周波数で変化させる無偏光化手段７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】位相物体試料の測定とＳ／Ｎ比の向上を、複雑な光学系構成を伴うことなく可能とする光ファイバプローブと、それを備えた光検出装置を実現する。
【解決手段】本発明は、光源１１から射出された光を伝搬させるコア３１を有する光ファイバ２１の、通常伝搬光を射出する射出面２０ａと近接場光を滲出させる射出面２０ｂを同心面状に有し、近接場光を滲出させる射出面に、滲出のための被覆層３３が形成され、通常伝搬光を射出する射出面に、該射出面に入射した光の一部を反射し、別の一部を透過させる被覆層３３を備える光ファイバープローブ１３において、通常伝搬光を射出する射出面に入射した光のうち、該射出面にて反射され、光ファイバに再度戻り伝搬する光の強度と、射出面から射出され、被測定面２ａにて反射し、射出面を透過した後、光ファイバに再度戻り伝搬する光の強度とが、同一になるような被覆層３３を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】伝搬光による光スポットを微小化するとともに、その位置を変位させることができるようにする。
【解決手段】光軸対称で凸の錐体面を光射出面として有する透明な光学素子１０の光射出面１０Ａから、光軸ＡＸに直交する面内で光射出面の断面形状に相似な形状で、光軸から所望の内径と幅とを有する光軸対称な光束部分Ｌ１２を射出させて、光学素子外の光軸上に微小な光スポットＳＰを形成させ、光軸対称な光束部分Ｌ１２の光軸ＡＸからの内径：Ｒと幅：Δのうち、少なくとも光軸からの内径：Ｒを変化させることにより微小な光スポットＳＰの形成位置を変化させる。 （もっと読む）