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Fターム[2G001BA20]の内容

放射線を利用した材料分析 (46,695) | 利用、言及された生起現象、分折手法 (5,017) | 回折 (542) | ワイセンベルグ、プリセッション、回転結晶法又は振動結晶法 (2)

Fターム[2G001BA20]に分類される特許

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【課題】電子線を照射した試料からの特性X線を回折させてスペクトルを採取するシステムにおいて、採取スペクトルの各ピークが、測定対象であるか、カソードルミネッセンスや高次線の複合ピークであるかの情報を提供する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部10と、電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子50と、前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサ60と、前記回折X線のイメージのエネルギー分散方向を測定長手方向として前記イメージセンサに隣接して配置され、エネルギー設定範囲において前記回折X線を検出するシンチレーションカウンタ70と、前記イメージセンサで検出された前記回折X線のスペクトルを分析すると共に、前記シンチレーションカウンタの検出結果を参照し、前記スペクトルのピークの内容を分析する分析部80とを備える。 (もっと読む)


【課題】
被検査基板の帯電状態を任意に制御でき、信頼性の高い電子ビームを用いた回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成されたチップを複数有する基板表面に電子ビームを照射し、該照射によって基板から発生する信号を検出して画像化し、該画像と他の画像とを比較して回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、電子ビームで走査しながら一方向に移動する基板のひとつの移動であるラインに含まれるチップ列に電子ビームを照射する検査スキャンにより検査用の画像を取得した後に、検査スキャンにより電子ビームが照射された領域の帯電状態を飽和状態にする、あるいは帯電状態を元に戻すことによって画像の質が均一になるように、該照射された領域に再び電子ビームを照射するポストスキャンの電子光学条件を設定する条件設定手段を備えたものである。 (もっと読む)


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