【課題】本発明の目的は、従来技術とは異なる組成を有して、従来の平板印刷版よりも耐刷性に優れ、また耐薬品性に優れているポジ型平版印刷版原版を提供することである。
【解決手段】（ａ）自己水分散性樹脂微粒子、
（ｂ）光熱変換剤、および
（ｃ）熱架橋性樹脂
を含んで成る塗布溶液を、基板の親水性面上に塗布し、その後
１１０℃より高い温度で乾燥させることによって製造されたポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】印刷機上現像性に優れ、かつ耐刷性、長期保存時の地汚れ耐性、非画像部のキズ汚れ耐性（耐傷性）に優れるＣＴＰ方式用の平版印刷版材料、その製造方法、及びその平版印刷版材料を用いた印刷方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に下塗り層と感熱画像形成層を有する平版印刷版材料において、該下塗り層がシラノール基を有するポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する製版方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、（Ｂ）ボレート化合物、（Ｃ）重合性化合物、および（Ｄ）酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下である疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるラクトン含有化合物。


（式中、Ａ¹は炭素−炭素二重結合を有する重合性官能基を示す。Ｒ¹は構成炭素上の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示す。ＷはＣＨ₂、酸素原子、硫黄原子のいずれかを示す。）
【効果】本発明のラクトン含有化合物は、機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、中でも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。また、本発明の重合体を感放射線レジスト組成物のベース樹脂として用いた場合、高解像性かつ液侵媒体である水への溶出及び水の浸入を抑制し、この高分子化合物がレジスト材料として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】印刷機上での処理液耐性が良好で、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料並びにそれを与える支持体及びその製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施し、更に、後処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体の製造方法において、該後処理はポリビニルホスホン酸水溶液による処理、又は、珪酸ソーダ処理後にポリビニルホスホン酸水溶液による処理であり、かつ、その後、該後処理されたアルミニウム板またはアルミニウム合金板をｐＨが４〜９、液温が７０〜９０℃の水溶液で洗浄することを特徴とする感光性平版印刷版用支持体その製造方法及び感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、ラインエッジラフネス、焦点深度等に優れたポリシロキサンの提供。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）


（Ｒ^２は１価の酸解離性基）及び、ケイ素原子に直接水素原子が結合したシロキサン単位、さらにケイ素原子に炭素数１〜２０の２価の炭化水素基を介して、炭素数１〜２０のアルコキシ基、シアノ基又は水酸基が結合したシロキサン単位で表される構造単位を有するポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、プラスチックを支持体とする（プラスチック支持体を有する）平版印刷版材料の作製方法および平版印刷版材料において、水酸基を有する下引き層上に有機チタン化合物を含有する親水性層を塗布し親水性層を塗設することによって、非画像部の膜強度を増すことにより異物耐性が向上した平版印刷版材料の作製方法および平版印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】プラスチック支持体上に、少なくとも、下引き層、親水性層、画像形成層、を有する平版印刷版材料の作製方法において、該平版印刷版材料がプラスチック支持体上に設けられた水酸基を有する下引き層上に、有機チタン化合物を含有する親水性層塗布液を塗布、乾燥することにより形成される親水性層を有することを特徴とする平版印刷版材料の作製方法。 （もっと読む）

【課題】色素残りが減少し、印刷汚れ性が改良された感光性平版印刷版用支持体とその製造方法、並びに平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】アルミニウム板またはアルミニウム合金板に粗面化処理を施し、次いで陽極酸化処理を施し、次いで後処理を施して形成される感光性平版印刷版用支持体の製造方法において、前記陽極酸化処理後、硝酸水溶液に浸漬し水洗後、ポリビニルホスホン酸水溶液による処理を施すことを特徴とする感光性平版印刷版用支持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光法で発生する液浸特有のレジスト欠陥を極力抑制する。
【解決手段】化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜101とそれを覆う保護膜102とが形成された被処理基板100を所定の液体103を表面に保持しながら露光する液浸露光工程と、露光された被処理基板100を熱処理する露光後ベーク工程と、熱処理された被処理基板100を現像液を用いて現像する現像工程とを行う、フォトレジストパターン形成方法において、前記液浸露光工程と露光後ベーク工程との間に、被処理基板上の保護膜102を剥離液110で剥離する剥離工程を行う。保護膜102を浸透してレジスト膜101との界面に到達した液体103があって、その液体103中にレジスト膜101から反応性物質が溶出していても、保護膜102とともに除去することができるので、露光後ベーク時に、溶出した反応性物質に起因する脱保護の促進・抑止を抑えることができ、レジスト欠陥を低減できる。 （もっと読む）

【課題】実用的な露光可視画性を有し、かつ機上現像性と印刷時の非画像部汚れの良好な機上現像型平版印刷版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に親水性層及び感熱画像形成層を有する平版印刷版材料において、該感熱画像形成層が、微粒子状態に分散された熱溶融性化合物を含有し、かつ該熱溶融性化合物に溶解性を有する有機染料を分散状態で含有することを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、感度、解像度、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、アルカリ分解性基を含有するスルフォニウム塩を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法であって、露光ラチチュード（ＥＬ）の改良、パターン倒れ及びスカム防止特性について、高次元での並立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シアノ基を有する繰り返し単位を少なくとも２種類含有し、該シアノ基を有する繰り返し単位のうち、少なくとも１種がさらにラクトン構造を有する繰り返し単位（Ａ１）である樹脂であって、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感光層の感度低下を効果的に抑制でき、高感度な感光層が得られ、かつ基体に対して凹凸追従性に優れ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料において、該感光層が、増感剤として蛍光増白剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、アンチレフレクティブ層の堆積のための安定なプロセスを提供する。
【解決手段】 ヘリウムガスを用いてプラズマ励起シラン酸化物プロセス、プラズマ励起シランオキシナイトライドプロセス及びプラズマ励起シランナイトライドプロセスの堆積速度を下げる。また、ヘリウムはプロセスを安定化するためにも用いられ、別々の膜を堆積できるようにした。本発明はまた、プロセスパラメータを制御して、所望の光学挙動を得るための最適な屈折率、吸収率及び厚さを変化させたアンチレフレクティブ層を生成する。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）〜（６）の繰り返し単位の含有量が、（１）１〜６０モル％、（２）１〜６０モル％、（３）１〜５０モル％、（４）０〜６０モル％、（５）０〜３０モル％、（６）０〜３０モル％、重量平均分子量３，０００〜３０，０００、分散度１．５〜２．５である高分子化合物。


（Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁷、Ｒ⁹、Ｒ¹¹はＨ又はＣＨ₃。Ｙはメチレン又はＯ。Ｙがメチレンの場合Ｒ²はＣＯ₂Ｒ¹⁰。ＹがＯの場合Ｒ²はＨ又はＣＯ₂Ｒ¹⁰。Ｒ¹⁰はＣ１〜１５のアルキル基又はアルキル基にＯが挿入された基。Ｒ⁵、Ｒ⁶はＨ又はＯＨ。Ｒ⁸は３級エステル型酸分解性保護基。Ｒ¹²はＨを含むフルオロアルキル基。Ｒ¹²は酸素含有官能基で置換されていてもよく及び／又は炭素−炭素結合間にＯを介在させてもよい。）
【効果】本発明の高分子化合物をベース樹脂として含むレジスト材料は、高解像度を有し、ラインエッジラフネス及びＩ／Ｇバイアスが改善されたものである。 （もっと読む）

【課題】反射防止特性を効果的に用いてリソグラフィー工程のマージンを確保することができる新規なレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供する。
【解決手段】レジスト下層膜用ハードマスク組成物に関し、末端メトキシジメチルポリシロキサンとポリメトキシシランから生成する重合体、アンスリルメチルメタクリレート・アクリル酸共重合体酸或いは塩基性触媒、そして有機溶媒を含む組成物を特徴とするレジスト下層膜用組成物を提供する。 （もっと読む）

基板、及び（ａ）波長２５０〜１，２００ｎｍの輻射線を吸収する、光開始剤及び増感剤／共開始剤系から選択された少なくとも１種の成分；（ｂ）トリイソシアネートを、（ｉ）２つの遊離ＯＨ基及び少なくとも１つの(メタ)アクリル基を有する少なくとも１種のアクリル又はメタクリルモノマーと、及び（ｉｉ）１つのＯＨ基、少なくとも１つの(メタ)アクリル基及び少なくとも１つのポリ(アルキレンオキシド)鎖を分子内に含む少なくとも１種の化合物と反応させることにより得ることができる、ＧＰＣによって測定して平均分子量が３，５００〜９，０００の少なくとも１種のラジカル重合性オリゴマーＡを含み、該(メタ)アクリルモノマー（ｉ）が、ＯＨ官能基を有する(メタ)アクリル化合物の総量を基準として、２〜２０モル％の量で存在する輻射線感受性塗膜を含んで成る輻射線感光性要素。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物であって、通常露光及び液浸露光に於ける、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける、感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物を提供する。
【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる特定構造の化合物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、感光層と支持体又は保護フイルムとを容易に剥離することができ、基材表面の凹凸への追従性が良好で、青紫色レーザ露光システム中に好適な感光性フイルム、並びに、該感光性フイルムを用いた永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。
【解決手段】支持体と、感光層と、保護フイルムとをこの順に積層してなる感光性フイルムであって、前記支持体の少なくとも一方の面が離型性を有し、該離型性表面の表面張力が４０ｄｙｎ／ｃｍ以下であり、前記感光性フイルムから幅４．５ｃｍ×長さ８ｃｍに切り出したサンプルを、前記支持体が表面側となるように台座上に固定し、該サンプルから支持体を引っ張り速度１６０ｃｍ／ｍｉｎで引き剥がした際における前記感光層と前記支持体との剥離力が１〜３００ｇｆ／４５ｍｍであることを特徴とする感光性フイルム、これを用いた永久パターン及びその形成方法である。 （もっと読む）

【課題】感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、該感光層を露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、０．１〜５０ｍＪ／ｃｍ^２であり、前記光重合開始剤が芳香族オニウム塩を含み、前記増感剤が、縮環系化合物、並びに少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも１種を含むことを特徴とするパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いるパターン形成方法。 （もっと読む）