【課題】 引き置きによるパターンの寸法変動を抑制し、精度よいパターンを再現性よく製造する方法の提供。
【解決手段】 （１）基板上にポリシラザン化合物および光酸発生剤を含んでなる感光性組成物の塗膜を形成させる工程、（２）塗膜を像様露光する工程、（３）塗膜を弱アルカリ性水溶液に浸漬する工程、および（４）現像する現像工程を含んでなるパターン形成方法、およびそれにより得られたパターンを焼成してシリカ質膜を製造する方法。このシリカ質膜は、半導体デバイスに応用することができる。 （もっと読む）

【課題】
光応答性を低下させることなく、成膜性に影響する構造部分や表面物性に影響する部位を柔軟に変換でき、比較的低エネルギーの波長光により表面変換が可能で、かつ、再現性良く基板上に有機薄膜を形成できる化合物、及び、基体表面に該化合物を含有する組成物から形成された有機薄膜を有する有機薄膜形成体を提供する。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で示される化合物、及び、基体表面に、前記式（Ｉ）で示される化合物を含む有機薄膜形成用組成物から形成された有機薄膜を有する有機薄膜形成体。
【化１】


〔式中、Ｘはヘテロ原子を含有する官能基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換された（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基）等を、ｎは１〜３０の整数を、ｍは１〜５の整数を、Ｇ１は単結合又は炭素数が１〜３の２価の炭化水素基を表し、Ａｒは置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表し、Ｇ２は酸素原子等をそれぞれ表す。〕 （もっと読む）