【課題】汚れ付着によるロール劣化が軽減され、従来以上の長期にわたって搬送、転写を安定的に行なえる搬送装置及び積層体の製造装置を提供する。
【解決手段】ゴム層６５ａを有する圧着ローラ６４ａ及びゴム層６５ｂを有する圧着ローラ６４ｂとゴム層６５ａにＵＶ−Ｂ光を照射するＵＶ−Ｂランプ８１とを備えており、ゴム層６５ａの表面に汚れが生じていると判定されたときに、ゴム層６５ａに積算照度が所定値に達するまでインラインでＵＶ−Ｂ光を照射して洗浄できるようになっている。 （もっと読む）

【課題】化学増幅系レジストにおけるかぶりや膜減り現象防止に優れた帯電防止剤、該帯電防止剤を用いた帯電防止膜及び被覆物品を提供することを目的とする。
【解決手段】水溶性導電性高分子、溶媒及び水溶性高分子を含む帯電防止剤。特定の水溶性高分子、特に、ポリビニル構造を有する特定の水溶性高分子を水溶性導電性高分子と併用することにより、安価で簡単にレジストへの塗布性を付与できる界面活性剤を用いても、塗布性を維持しながら、レジストへの影響（レジストの溶解やレジストの現像の結果生じるレジストのかぶりや膜べり現象）を抑止できる。界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。 （もっと読む）

【課題】化学増幅系レジストにおけるかぶりや膜減り現象防止に優れた帯電防止剤、該帯電防止剤を用いた帯電防止膜及び被覆物品を提供することを目的とする。
【解決手段】水溶性導電性高分子、溶媒及び水溶性高分子を含む帯電防止剤。特定の水溶性高分子、特に、ポリペプチド結合を有する水溶性高分子化合物またはポリビニル構造を有する特定の水溶性高分子を水溶性導電性高分子と併用することにより、安価で簡単にレジストへの塗布性を付与できる界面活性剤を用いても、塗布性を維持しながら、レジストへの影響（レジストの溶解やレジストの現像の結果生じるレジストのかぶりや膜べり現象）を抑止できる。界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線による微細なレジストパターン形成においてより正確なパターン形成を行う為のレジストパターンを形成する方法を開発する。
【解決手段】荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、製版装置内での搬送性に優れ、印刷適性に優れる印刷版材料、それを用いた印刷版及び印刷方法を提供することにある。
【解決手段】 ポリエステル支持体の一方の面に画像形成機能層を有し、他方の面に導電性物質を含む導電性層を有する印刷版材料において、該導電性物質が酸化スズであり、該導電性層上にバックコート層を有し、かつ該導電性層及び該バックコート層が各々ポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはセルロースエステル樹脂を含有することを特徴とする印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】 基体への積層工程におけるシワの発生や静電気の発生が抑制され、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に感光層と保護フィルムとを少なくともこの順に有し、該保護フィルム中に存在する面積が２０００μｍ^２以上、かつ、フィルム表面からの高さが１〜７μｍのフィッシュアイの個数が５０〜１０００個／ｍ^２であることを特徴とするパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置、及び該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。 （もっと読む）