【課題】彫刻感度が高く、レーザー彫刻により直接製版が可能なレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷板の製造方法、並びにそれにより得られたレリーフ印刷板を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アセチレン化合物、及び（Ｂ）バインダーポリマーを少なくとも含有するレーザー彫刻用樹脂組成物、それを用いたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターン露光のみで基板表面に化学活性基パターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、疎水性の光分解性基で保護され、光照射によりアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基またはスルホ基から選ばれる親水性基を生起する感光性有機材料を付与して感光性有機材料層を形成する工程、前記感光性有機材料層に選択的にパターンの露光を行ない、露光部に前記親水性基を生起させる工程、前記露光後の感光性有機材料層上に親水性セグメントと疎水性セグメントとを有するブロックポリマーを付与し、前記露光により生起した親水性基の有る部分と無い部分に前記ブロックポリマー中の親水性セグメントと疎水性セグメントとを分離する工程、及び分離されたセグメントの一方を除去し、他方のセグメントからなるパターンを形成する工程を有するパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】
製造の複雑さを過度に増大させることなく、分子レベルで微細パターンの表面ラフネスを制御できる製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明のナノパターンの製造方法は基板に光異性化化合物を有する配向膜を形成する工程と、前記配向膜上に、主鎖および側鎖を有する液晶性高分子を含有する液晶層を形成する工程と、直線偏光している紫外線を前記配向膜に照射して、前記紫外線により光異性化した光異性化化合物に対応して前記液晶層の液晶性高分子の主鎖を所定方向に配向させる工程と、前記液晶層をマスクとして、前記基板の異方性ドライエッチングを行い、前記液晶性高分子の側鎖の長さに対応した一定のピッチの凸部を有するナノパターンを形成する工程とを備える構成とする。 （もっと読む）