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Fターム[2H096GA33]の内容

感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 現像 (4,506) | 液体現像装置 (643) | スピン現像装置 (178) | 現像室 (7)

Fターム[2H096GA33]に分類される特許

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【課題】レジストパターンの倒壊を抑制する基板処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理方法は、基板上にレジスト膜を形成するレジスト形成工程と、レジスト膜を露光する露光工程と、露光工程の後、基板を処理室20内に収容し、処理室20の外部で生成したイオンを含むガスを処理室20内に導入し、イオンを含む雰囲気中でレジスト膜に現像液を供給しレジスト膜を現像する現像工程と、現像工程の後、イオンを含む雰囲気に維持された処理室20内でレジスト膜にリンス液を供給しレジスト膜を洗浄するリンス工程と、リンス工程の後、レジスト膜を乾燥する乾燥工程とを備えた。 (もっと読む)


【課題】現像液から発生する気泡を簡易な構成により低減させ、レジストパターンの未解像欠陥を低減させる。
【解決手段】本発明に係る現像装置は、露光済み基板上に現像液を吐出する吐出部と、前記基板と前記吐出部とを収容する現像室と、前記現像室内を加圧する加圧機と、を具備することにより、現像室内での現像液の発泡を抑制する。或いは、前記吐出部に現像液を供給する現像液タンクと、前記現像液タンク内を減圧する減圧機と、を具備することにより、現像液タンク内で現像液中の気体を強制的に除去することにより、現像室内での現像液の発泡を抑制する。 (もっと読む)


【課題】アクリル系カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、それが半硬化状態となっていても容易に除去することのできる水性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】カラーフィルターの製造ラインを構成する処理槽内に付着した当該カラーフィルター用樹脂組成物からなる樹脂汚れを、該処理槽内から除去するための水性洗浄剤組成物は、成分(A)アルカリ剤0.1〜10重量%、成分(B)有機溶剤30〜50重量%、成分(C)キレート剤1〜10重量%、成分(D)界面活性剤0.01〜1重量%、及び成分(E)水 残部を含有する。 (もっと読む)


【課題】処理液、例えばレジスト液或いは現像液が熱影響にて劣化等の影響を極力抑制すること。
【解決手段】収納容器499は、インタフェースユニット部IFUの下方位置に配置されている。この配置位置としては、基板受渡部の基板搬入出口19の下部より垂直方向の距離V100下方に配置された露光装置と基板を受渡しする渡し部4或いは受取部5より垂直方向の距離V101下方に設定されている。インタフェースユニット部IFU内は少なくとも基板搬入出口19或いは渡し部4或いは受取部5に対して温度調節されたダウンフローDFが直接作用するように構成され、基板搬入出口19或いは渡し部4或いは受取部5からの熱伝達を緩和するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】現像液を用いて現像処理を行うウエット現像処理装置において、現像処理でのプロセストラブルの影響を受けた基板が次工程へ流出することを防止するために、基板のフォトレジストが未現像、過剰若しくは過少現像処理、過剰若しくは過少リンス処理等の不具合を即座に検知することができるウエット現像処理装置を提供する。
【解決手段】処理槽内で、現像液供給ノズルより吐出する現像液と、リンス液供給ノズルより吐出するリンス液とを、その順番に吐出を行う現像処理の際に、現像処理液が、処理槽内に配置した排水管より常時排出する現像処理装置であって、排水管内に2個以上の複数のpH計測器を設置し、その一方のpH計測器を処理槽に近い排水管の上流位置に、他方のpH計測器を下流位置に設置し、排水管中の現像処理液を複数のpH計測器で検出し、検出された計測値の比較によって、基板の現像状態を管理することを特徴とするウエット現像処理装置。 (もっと読む)


【課題】現像処理時に液体が基板の裏面側に回り込むことを防止する。
【解決手段】チャック120に保持されたウェハWを囲むように外周板140が設けられる。外周板140は,ウェハWの外周部との間に狭小な隙間Dを形成する。チャック120に保持されたウェハWの裏面側の内周カップ123の上面には,気体吹出し口130が形成される。例えば洗浄液供給ノズル160によりウェハW上に洗浄液が供給されてウェハWが洗浄される際には,気体吹出し口130から気体が吹出され,ウェハWの裏面側から隙間Dの下側を通過し外方の外周板140側に流れる気流が形成される。隙間Dから漏れた洗浄液などの液体は,気流によって外側に押し流され,外周板140の裏面を伝って排出される。 (もっと読む)


【課題】 微細構造体の倒壊を防止するとともに、効率よく現像、洗浄またはエッチングをするための方法を提供する。
【解決手段】 本発明の微細構造体の製造方法は、リソグラフィにより基板上の樹脂層を露光し、露光後の樹脂層に現像液を供給して樹脂型を形成する工程を含み、供給する現像液にメガヘルツ帯域の振動を与えることを特徴とする。 (もっと読む)


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