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Fターム[2H097FA04]の内容

Fターム[2H097FA04]に分類される特許

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【課題】高感度で十分なスペーサー形状が得られ、スペーサー形成時に発生する汚染物を抑制することができ、再処理時の強アルカリ水溶液等剥離液に対する耐性や基板との密着性に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】不飽和カルボン酸および/または不飽和カルボン酸無水物と、他の不飽和化合物との共重合体、重合性不飽和化合物、光重合開始剤、および上記共重合体と熱により架橋反応しうる官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】レジスト層に応じた露光が可能で、しかも、製品寿命の長い露光用光源ならびにこれを用いた露光装置を提供する。
【解決手段】露光用光源10は、内圧の異なるランプ24をそれぞれ備えた少なくとも2種以上のランプユニット20(20a、20b、20c…)と、ランプユニット20(20a、20b、20c…)を保持するランプユニットホルダー22とを備えることを特徴とする。この発明によれば、内圧の異なるランプ24をそれぞれ備えた少なくとも2種以上のランプユニット20(20a、20b、20c…)を備えているので、露光対象物Xを露光するのに最適のランプユニット20(20a、20b、20c…)を選択的に発光させることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は真空紫外光を用いて高精細なパターン状の真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を高感度で製造できる、パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、上記メタルマスクを上記パターン形成用基板の上記パターン形成面とは反対面側から磁石によって固定する、メタルマスク固定工程と、上記パターン形成面上に固定されたメタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射する、真空紫外光照射工程とにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決するものである。 (もっと読む)


【課題】 マスクと基板との相対的な移動を不要とし、3次元の微細構造体を容易に形成することが可能な微細構造体の形成方法を提供する。
【解決手段】 それぞれ露光感度波長の異なるレジスト層12,13を2層形成し、その後、パターンの異なる2枚の露光マスク110,120を用いて、2層のレジスト層12,13の露光を順次行なうことにより、最終的に鋳型となるレジスト層の平面と平行な平面内における露光光の露光量(光エネルギ)分布が連続的に変化するように制御でき、レジスト層12,13の各部での露光光の露光量(光エネルギ)分布に応じた深さの露光を可能とする。 (もっと読む)


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