【課題】光波形整形素子に関し、利得飽和や吸収飽和の起こる高いパワーレベルで使用する場合であっても、パターン効果を抑制し、信号の２Ｒ，３Ｒ再生を実現できるようにする。
【解決手段】光波形整形素子を、活性層３を有する半導体光導波路１０と、半導体光導波路１０の入射端面側に設けられた光増幅領域２０Ａと、半導体光導波路１０の出射端面側に設けられた光吸収領域２０Ｂとを備えるものとし、半導体光導波路１０を、入射端面及び出射端面の近傍領域の光閉じ込め係数が光導波方向の素子中央領域の光閉じ込め係数よりも大きくなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成の光量子化装置及び光アナログデジタル変換装置を提供する。
【解決手段】量子化対象である被量子化光パルスＰ１０を複数の経路に分割して出力する光分割手段２１と、分割された各被量子化光パルスＰ１０_１〜Ｐ１０_５をそれぞれ異なる透過率で透過させる複数の光フィルタ２３ａ〜２３ｅと、光フィルタ２３ａ〜２３ｅを介して出力される被量子化光パルスＰ２３ａ〜Ｐ２３ｅを順次受け、該被量子化光パルスの光強度が閾値を超えた場合に光パルスＰ２５を出力する光閾値フィルタ２５とを備える構成とする。 （もっと読む）

発明はレーザ技術及びファイバオプティクスに関する。高屈折率材料層に形成されたプレーナ型フォトニック結晶構造に基づく分散素子が開示される。一実施形態において、プレーナ型フォトニック構造は複数本の所定の幅と深さをもつ平行溝を有し、パルスは溝に垂直に伝搬し、分散素子長は位相変調パルスの最大圧縮を与えるように定められる。第２の実施形態にしたがう周期構造は図８に示される２次元周期構造を有し、周期構造領域には、互いに等しく、列を形成する第１の孔５及び、互いに等しく、所定の数の隣接する列を形成する第２の孔６があり、第１の孔の寸法は第２の孔の寸法と異なり、第１及び第２の孔の寸法並びに高屈折率材料及び基板の屈折率は上記の構造において第２の孔の列に沿う単一モード動作での位相変調パルスの誘導伝搬を与えるように定められ、第２の実施形態における分散素子長は位相変調パルスの最大圧縮を与えるように定められる。
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