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Fターム[3B117BA21]の内容

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Fターム[3B117BA21]に分類される特許

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【課題】従来のエアーシャワー装置では、吹出風で人体に付着した花粉及び塵埃を除去する手段が一般的であるが、静電気により付着しているものは吹出風のみでは吹き飛びにくいため、すべて取りきれないという課題がある。また除電を実施する手段としてコロナ放電を行うものがあるが、人体に有害なオゾンが発生するため、人体の健康上に悪影響を及ぼすという課題がある。
【解決手段】微細な水滴を噴霧させる微細水噴霧手段4と、吹出風により人体に付着した花粉や粉塵を吹き飛ばす花粉分離手段5を備えたことで、人体に有害なオゾンを発生させずにムラ無く除電でき、確実に花粉や塵埃を吹き飛ばすことができる花粉除去装置1を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】短時間で確実に設置できるセキュリティゾーンを提供すること。
【解決手段】粉塵を処理する作業スペースの出入り口に設置するセキュリティゾーンAにおいて、セキュリティゾーンAの一室Gは、フレーム1と樹脂シート袋体2からなり、支柱となる縦部材10と横部材11と連結部材12からなるフレーム1内に、予めつなぎ目23を気密状態とした樹脂シート袋体2が保形部材24を用いてフレーム1に取り付けられることによって、前記樹脂シート袋体2を保形させている。 (もっと読む)


【課題】 洗浄気体を利用してパターンを備えたフォトマスクを洗浄し、さらに、フォトマスク保護装置と集積回路パターンを備えたフォトマスクを結合させ、フォトマスク保護装置とパターンを備えたフォトマスク間に洗浄気体を充満させることにより、外界環境で発生するいかなるパーティクルにも汚染されない、半導体部品の洗浄方法及びその装置の提供。
【解決手段】 パターンを備えたフォトマスクの提供と、フォトマスク保護装置の提供と、該パターンを備えた該フォトマスク及び該フォトマスク保護装置の洗浄の実施と、該パターンを備えた該フォトマスクと該フォトマスク保護装置を結合させる手順を含み、該フォトマスク保護装置が該パターンを備えた該フォトマスクの上方に位置すると共に、該パターンを備えた該フォトマスクと該フォトマスク保護装置間に洗浄気体を充満させた空間を形成する。
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